特許

J-GLOBAL ID：200903037593243369

階調をもつフォトマスクの欠陥修正方法および階調をもつフォトマスク

発明者： 樽本 憲寛 ,  牛草 昌人 ,  高橋 正泰 ,  木下 一樹 ,  新海 匡彦
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-079193
公開番号（公開出願番号）：特開2007-256491
出願日： 2006年03月22日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：

【課題】階調をもつフォトマスクの半透明膜の欠陥修正方法において、欠陥部の大きさや形状に関わらず高精度、高品質の修正膜を形成することが可能である階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法および修正された階調をもつフォトマスクを提供する。【解決手段】透明基板の一方の主面上にパターンを有し、パターンを形成する膜が、露光光を透過しない遮光膜と、露光光を所望の透過率で透過する半透明膜とからなり、遮光膜が少なくとも存在する遮光領域、半透明膜が存在する半透明領域、および遮光膜と半透明膜のいずれも存在しない透過領域、とが混在する階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法において、半透明領域の白欠陥部に相対する透明基板の他方の主面上に修正用の半透明膜を白欠陥部の形状に合わせて形成し、修正用の半透明膜の透過光量が、欠陥が無い正常な半透明領域の透過光量に等しくなるようにすることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

透明基板の一方の主面上にマスクパターンを有し、前記マスクパターンを形成する膜が、実質的に露光光を透過しない遮光膜と、前記露光光を所望の透過率で透過する半透明膜とからなり、前記透明基板上に、前記遮光膜が少なくとも存在する遮光領域、前記半透明膜が存在する半透明領域、および前記遮光膜と前記半透明膜のいずれも存在しない透過領域、とが混在する階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法において、 前記半透明領域の欠陥が白欠陥であり、該白欠陥に相対する前記透明基板の他方の主面上に修正用の半透明膜を該白欠陥の形状に合わせて形成し、前記修正用の半透明膜の透過光量が、欠陥が無い正常な半透明領域の透過光量に等しくなるようにすることを特徴とする階調をもつフォトマスクの半透明領域の欠陥修正方法。

IPC (1件)：

G03F 1/08

FI (1件)：

G03F1/08 T

Fターム (6件)：

2H095BC04 ,  2H095BC05 ,  2H095BD32 ,  2H095BD33 ,  2H095BD34 ,  2H095BD35

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 特許第3415602号公報
  
• 液晶表示装置とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-283194   出願人：田中栄
• グレートーンマスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-386050   出願人：ホーヤ株式会社
• 特許第3556591号公報
  
• 特許第3465091号公報
  

審査官引用 (4件)

• 位相シフト・マスクの欠陥修正方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-255774   出願人：ソニー株式会社
• グレートーンマスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-386093   出願人：ホーヤ株式会社
• 露光マスクの修正方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-271136   出願人：株式会社東芝
• 位相シフトマスクのシフター欠陥修正方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-314366   出願人：凸版印刷株式会社