特許
J-GLOBAL ID：200903006315701035

有機EL素子の製造装置

発明者：
新木 一郎

新木 一郎 について

, 
阿部 可子

阿部 可子 について

, 
松本 栄一

松本 栄一 について


出願人/特許権者：
トッキ株式会社

トッキ株式会社 について


代理人 (2件)： 吉井 剛 ,  吉井 雅栄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-325514
公開番号（公開出願番号）：特開2006-134826
出願日： 2004年11月09日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：
【課題】 極めて効率良く封止材と基板との接着面をクリーニングして濡れ性を改善できる極めて生産性に秀れた有機EL素子の製造装置を提供することである。【解決手段】 基板1上に陽極2,有機発光層3,陰極4を順次積層して形成される発光部5上に、この発光部5を封止する封止材6を設けて成る有機EL素子の製造装置であって、前記封止材6の前記基板1との接着面6a若しくは基板1の前記封止材6との接着面1aの少なくともいずれか一方に、プラズマを照射してエッチングすることでこの接着面1a・6aをクリーニングするプラズマクリーニング機構を備えたものである。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板上に陽極,有機発光層,陰極を順次積層して形成される発光部上に、この発光部を封止する封止材を設けて成る有機EL素子の製造装置であって、前記封止材の前記基板との接着面若しくは基板の前記封止材との接着面の少なくともいずれか一方に、プラズマを照射してエッチングすることでこの接着面をクリーニングするプラズマクリーニング機構を備えたことを特徴とする有機EL素子の製造装置。
IPC (3件)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/04 ,  H01L 51/50
FI (3件)：
H05B33/10 ,  H05B33/04 ,  H05B33/14 A
Fターム (7件)：
3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB01 ,  3K007BB05 ,  3K007DB03 ,  3K007FA02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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