特許
J-GLOBAL ID:200903006348025841

ステージ制御装置及びその方法、ステージ装置並びに露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-035210
公開番号(公開出願番号):特開2006-222312
出願日: 2005年02月10日
公開日(公表日): 2006年08月24日
要約:
【課題】ウエハ表面の凹凸やパターン段差が大きかった場合でもステージが十分に追従できるようなステージ制御を実現する。【解決手段】基板を載置して移動可能なステージを制御するステージ制御装置は、基板の表面の凹凸形状に対応する基板面位置情報に基づいてステージの鉛直方向に関する目標値を生成し、生成された目標値とステージの計測位置との偏差信号に基づいて該ステージの駆動指令信号を生成する。ここで、基板の表面の凹凸形状が有する空間周波数に基づいて目標周波数が決定され、駆動指令信号の生成には、上記偏差信号の目標周波数の成分を増幅して得られた信号が用いられる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
基板を載置して移動可能な第1ステージを制御するステージ制御装置であって、 前記基板の表面の凹凸形状に対応する基板面位置情報に基づいて前記第1ステージの鉛直方向に関する目標値を生成する目標値生成手段と、 前記生成手段で生成された目標値と前記第1ステージの計測位置との偏差信号に基づいて該第1ステージの駆動指令信号を生成する信号生成手段とを備え、 前記信号生成手段は、前記基板の表面の凹凸形状が有する空間周波数に基づいて決定された目標周波数を得て、前記偏差信号の該目標周波数の成分を増幅して得られた信号を用いて前記駆動指令信号を生成することを特徴とするステージ制御装置。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G01B 21/00 ,  G01B 21/20 ,  G03F 7/207
FI (4件):
H01L21/30 526A ,  G01B21/00 A ,  G01B21/20 C ,  G03F7/207 H
Fターム (17件):
2F069AA02 ,  2F069AA04 ,  2F069AA54 ,  2F069AA61 ,  2F069BB15 ,  2F069BB40 ,  2F069CC06 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069GG59 ,  2F069NN00 ,  2F069NN07 ,  5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC05 ,  5F046CC13 ,  5F046DA14
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-075652   出願人:キヤノン株式会社
審査官引用 (4件)
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