基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-075652
公開番号（公開出願番号）：特開2002-280283
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】パターン配置を測定する処理と加工処理を並列処理し、2個の基板ステージ位置の精確な把握を維持可能とし、配管配線のからまるのを防止する。【解決手段】基板2a,2bにおけるパターン配置を測定するアライメント系1と、アライメント系1とは別に設けられ、基板2a,2bに加工処理する処理系5と、基板を保持し、xy平面上を動くことのできる第1の基板ステージ4a及び第2の基板ステージ4bと、両基板ステージ4a,4bの位置を計測する位置計測手段40xa〜40xd,40ya〜40yc,42ya〜42ycとを備え、該位置計測手段はx軸方向の位置を計測するための4箇所、及びy軸方向の位置を計測するための3箇所にあって、y軸方向の位置を計測するための1箇所は両基板ステージ4a,4bに関して逆側に配置されている。

請求項（抜粋）：

基板におけるパターン配置を測定するアライメント系と、前記アライメント系とは別に設けられ、基板の加工処理をする処理系と、前記アライメント系と前記処理系を結ぶ軸をy軸、アライメント系の光軸をz軸、これらの両軸と直交する方向をx軸としたときに、前記基板を保持し、xy平面上を動くことのできる第1の基板ステージと、基板を保持し、前記xy平面上を動くことのできる第2の基板ステージと、前記第1および第2の両基板ステージの位置を計測する位置計測システムとを備えており、前記位置計測システムはx軸方向の位置を計測するための少なくとも3箇所、およびy軸方向の位置を計測するための少なくとも3箇所にあって、y軸方向の位置を計測するための少なくとも1箇所は前記両基板ステージに関して逆側に配置されることを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G01B 21/00 , G03F 9/00 , H01L 21/68 , G01B 11/00

FI (6件)：

G01B 21/00 D , G03F 9/00 H , H01L 21/68 A , H01L 21/68 K , G01B 11/00 G , H01L 21/30 503 A

Fターム (43件)：

2F065AA03 , 2F065BB02 , 2F065CC00 , 2F065FF51 , 2F065GG04 , 2F065HH04 , 2F065JJ05 , 2F065PP12 , 2F069AA03 , 2F069BB40 , 2F069GG04 , 2F069GG07 , 2F069HH09 , 2F069MM03 , 2F069MM24 , 2F069MM34 , 5F031CA02 , 5F031GA24 , 5F031GA30 , 5F031GA43 , 5F031HA01 , 5F031HA13 , 5F031HA16 , 5F031HA53 , 5F031HA57 , 5F031HA60 , 5F031JA02 , 5F031JA06 , 5F031JA14 , 5F031JA17 , 5F031JA19 , 5F031JA32 , 5F031MA27 , 5F031PA06 , 5F046AA17 , 5F046CC01 , 5F046CC03 , 5F046CC05 , 5F046CC13 , 5F046DB05 , 5F046DB10 , 5F046FC04 , 5F046FC05

引用特許：

審査官引用 (10件)

投影露光装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-299070 出願人：キヤノン株式会社
ステージ装置、露光装置、及び前記ステージ装置を用いた位置決め方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-339789 出願人：株式会社ニコン
露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-027940 出願人：株式会社ニコン

全件表示

前のページに戻る