レーザ照射装置

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出願人/特許権者： ,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-076108
公開番号（公開出願番号）：特開2002-280323
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】干渉性の高いレーザ発振器を用いる場合において、照射面またはその近傍におけるレーザ光のエネルギー分布の均一性の向上を行なうことを目的とする。【解決手段】高い干渉性を利用して、照射面またはその近傍において故意に干渉縞を形成して周期的なエネルギー分布を有するレーザ光を作り、エネルギー分布が一様に繰り返すレーザ光に成形する。このようなレーザ光は、マクロ的にはエネルギー分布が均一であると見なすことができる。

請求項（抜粋）：

パルス発振型のレーザと、光学系と、を有するレーザ照射装置であって、前記光学系は、照射面またはその近傍において前記パルス発振型のレーザを光源とする第1のレーザ光を一方向において周期的なエネルギー分布を有する第2のレーザ光に成形することを特徴とするレーザ照射装置。

IPC (4件)：

H01L 21/268 , B23K 26/06 , H01S 3/00 , H01L 21/20

FI (4件)：

H01L 21/268 J , B23K 26/06 E , H01S 3/00 B , H01L 21/20

Fターム (19件)：

4E068CD05 , 4E068CD12 , 4E068CD14 , 4E068DA10 , 5F052AA02 , 5F052BA07 , 5F052BB02 , 5F052BB03 , 5F052CA07 , 5F072AB02 , 5F072AB15 , 5F072AB20 , 5F072JJ20 , 5F072KK05 , 5F072KK11 , 5F072KK30 , 5F072QQ02 , 5F072SS06 , 5F072YY06

引用特許：

審査官引用 (7件)

印刷配線板の製造方法および基板表面粗化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-055115 出願人：日本電気株式会社
半導体処理方法及び半導体処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-322709 出願人：日本電気株式会社
レーザー照射装置およびレーザー照射方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-061781 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

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