特許
J-GLOBAL ID：200903006682472077
開口角整形ビーム・システムおよび方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
雨貝 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-300820
公開番号（公開出願番号）：特開2005-123196
出願日： 2004年10月14日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：
【課題】 1つの鋭いエッジを有する長方形、楕円形、および半楕円形の開口を使用して、望ましい幾何学的形状を有する整形ビーム・スポットを生成するための改良された方式を提供すること。【解決手段】 より鋭いビーム・エッジは、不足焦点または過焦点と組み合わせて長方形または楕円開口を偏心することによって作成可能である。球面収差制限では、不足焦点の半円開口が、鋭く、平坦なエッジを提供する。鋭いエッジは、精密なフライス加工の応用例に十分な分解能を備えることが可能であり、同時に、そのスポットは、製造または実験室環境で効率的に材料を削除するのに十分な全電流と電流密度によって十分に大きくすることができる。望ましい特定のビーム・スポットに応じて、球面収差が優勢な環境および色収差が優勢な環境において、脱焦、開口偏心、および無非点収差調整を含む技法の組合せを使用して所望の応用例のために望ましいビームを実現することができる。【選択図】 図1A
請求項（抜粋）：
荷電粒子放射源から荷電粒子を放射する工程と、
放射された前記荷電粒子から荷電粒子ビームを形成する工程と、
少なくとも1つの直線エッジを備える幾何学的形状を有する開口に、前記荷電粒子ビームを通過させる工程と、
前記放射源からの前記荷電粒子ビームを標的平面から離れた焦点平面上に集束し、前記標的平面でビームを作成する工程と、を含み、前記開口が、少なくとも1つの鋭いエッジと高電流値を有するビーム形状を前記標的で作成するように寸法決めされる、整形荷電粒子ビームを作成する方法。
IPC (5件)：
H01J37/317
, G21K5/04
, H01J37/09
, H01J37/153
, H01J37/31
H01J37/317 D
, G21K5/04 A
, H01J37/09 A
, H01J37/153 Z
, H01J37/31
5C033BB02
, 5C033BB09
, 5C033JJ01
, 5C034DD06
出願人引用 (2件)
-
米国特許第5,435,850号
-
米国特許第5,851,413号
審査官引用 (7件)
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