特許
J-GLOBAL ID：200903006948031853

基板端面の洗浄方法および洗浄装置

発明者：
藤本 昭浩

藤本 昭浩 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-024510
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209143
出願日： 1997年01月24日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】基板の端面に付着した塗布膜を有効に除去することができる基板端面の洗浄方法および洗浄装置を提供すること。【解決手段】表面に絶縁層としてポリイミド等の塗布膜が塗布された基板を回転させ、その状態で基板の端面部分に洗浄液を供給してその部分の塗布膜を除去し、基板を回転させたままの状態で、気体の吹き付けおよび/または真空吸引により基板の端面近傍における塗布膜の乾燥を促進させる。
請求項（抜粋）：
表面に塗布液が塗布されて塗布膜が形成された基板を回転させる工程と、前記基板を回転させたままの状態で、前記基板の端面部分に洗浄液を供給してその部分の塗布膜を除去する工程と、前記基板を回転させたままの状態で、前記基板の端面近傍における塗布膜の乾燥を促進させる工程とを具備することを特徴とする基板端面の洗浄方法。
IPC (5件)：
H01L 21/312 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 351
FI (5件)：
H01L 21/312 B ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 L ,  H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/30 577
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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