特許

J-GLOBAL ID：200903007261816415

銅めっき液組成物

発明者： 林 慎二朗 ,  瀧口 久範
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-210531
公開番号（公開出願番号）：特開2009-041096
出願日： 2007年08月10日
公開日（公表日）： 2009年02月26日
要約：

【課題】比較的薄い銅めっき皮膜を形成した場合でも、均一かつ平滑な、良好な外観を有する銅めっき皮膜を析出する銅めっき液組成物を提供する。【解決手段】銅めっき液組成物に塩化物イオンと臭化物イオンとを特定の量で含有する銅めっき液組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

銅イオン、電解質および塩化物イオンと臭化物イオンとを含む銅めっき液組成物であって、塩化物イオンと臭化物イオンの前記銅めっき液中の含有量が下記式(1)、(2)および(3)の関係をみたす銅めっき液組成物;

IPC (1件)：

C25D 3/38

FI (1件)：

C25D3/38 101

Fターム (7件)：

4K023AA19 ,  4K023BA06 ,  4K023BA08 ,  4K023BA29 ,  4K023CB07 ,  4K023CB28 ,  4K023DA02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 米国特許第2,931,760号明細書
  
• 特開昭63-186893号公報
  
• レベラー化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-157811   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー

審査官引用 (3件)

• めっき浴の調整方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-103860   出願人：奥野製薬工業株式会社
• 銅めっき方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-210538   出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
• マイクロビアやスルーホールをめっきする方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-101787   出願人：アトーテヒドイッチュラントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング