特許
J-GLOBAL ID：200903007501648183
真空処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-301005
公開番号（公開出願番号）：特開平11-135432
出願日： 1997年10月31日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】整流ノズルの温度上昇を防止するとともにウェハ温度の均一化を図ることを課題とする。【解決手段】処理室11と、この処理室11内に配置され、内部にヒータ12を備えるとともに上部にウェハ14を配置するワーク受け台13と、前記処理室11内に前記ウェハ14と向き合うように配置され、前記ウェハ主面に反応ガスを供給する機能を有したガス整流ノズル15とを具備し、前記ガス整流ノズル15のウェハ14と対向する面に光学的な反射層17を有することを特徴とする真空処理装置。
請求項（抜粋）：
処理室と、この処理室内に配置され、内部に加熱機構を備えるとともに上部にウェハを配置するワーク受け台と、前記処理室内に前記ウェハと向き合うように配置され、前記ウェハ主面に反応ガスを供給する機能を有したガス整流ノズルとを具備し、前記ガス整流ノズルの前記ウェハと対向する面に少なくとも光学的な反射層を有することを特徴とする真空処理装置。
引用特許：
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