特許
J-GLOBAL ID：200903007643104814

重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法

発明者：
安斎 竜一

安斎 竜一 について

, 
藤原 匡之

藤原 匡之 について

, 
上田 昭史

上田 昭史 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-191128
公開番号（公開出願番号）：特開2004-083894
出願日： 2003年07月03日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】波長250nm以下の光、特にArFエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、高感度であるといったレジスト性能を有し、ドライエッチング耐性に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いた微細なパターン形成方法を提供すること。【解決手段】下記式(1)〜(3)【化1】で表される構成単位から選ばれる1種又は2種以上を構成単位として含有することを特徴とする重合体。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記式(1)〜(3)
IPC (6件)：
C08F20/28 ,  C08F220/12 ,  C08F220/28 ,  C08F224/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (6件)：
C08F20/28 ,  C08F220/12 ,  C08F220/28 ,  C08F224/00 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (27件)：
2H025AA01 ,  2H025AA09 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05P ,  4J100BA11P ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (5件)
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