特許
J-GLOBAL ID：200903007677913649
はり構造体製作方法およびはり構造体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
来栖 和則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-321632
公開番号（公開出願番号）：特開2006-130598
出願日： 2004年11月05日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：
【課題】ステップ部を有するはり構造体をウエットエッチングによって一体的に製作する技術において、そのステップ部のうちの肩部の位置を制御する。【解決手段】ステップ部160を有するはり構造体144をウエットエッチングによって製作するために、被エッチング材400にマスクパターン450をコーティングする。そのマスクパターンは、(a)被エッチング材が侵食されずに残る予定残存部分500の表面を覆う基本パターン510と、(b)被エッチング材のうちそれの厚さ方向の途中まで侵食される予定半侵食部分504と、被エッチング材のうちそれの厚さ方向に貫通するまで侵食される予定貫通部分502のうちその予定半侵食部分をはり構造体の幅方向両側から挟む両側部分506,506とのうちの少なくとも両側部分506,506の表面を覆う補償パターン512とを有するものとする。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
長さ方向における一部分にステップ部を有するはり構造体をエッチングによって一体的に製作するはり構造体製作方法であって、
単結晶により構成された板状の被エッチング材の両面にそれぞれ膜状のエッチングマスク材をコーティングするコーティング工程と、
前記被エッチング材の両面にそれぞれコーティングされた2枚のエッチングマスク材に1組のマスクパターンをそれぞれ形成するマスクパターン形成工程と、
そのマスクパターン形成工程において前記1組のマスクパターンがそれぞれコーティングされた前記被エッチング材をエッチング液に浸漬させてウエットエッチングを実行するウエットエッチング工程と
を含み、
前記ステップ部は、(a)前記はり構造体の基本表面と同一の高さを有する高部と、(b)前記基本表面より低い低部であって、前記はり構造体の厚さ方向において前記高部から隔たるものと、(c)それら高部と低部との境界に位置して前記はり構造体を横断する肩部とを有しており、
前記被エッチング材は、(d)前記板状の被エッチング材から前記はり構造体を取り出すために、前記ウエットエッチングの実行時に、前記厚さ方向に貫通するまで侵食される予定貫通部分と、(e)前記高部を形成するために、前記ウエットエッチングの実行時に、侵食されずに残る予定残存部分と、(f)前記低部を形成するために、前記ウエットエッチングの実行時に、前記厚さ方向の途中まで侵食される予定半侵食部分とを有しており、
前記マスクパターンは、(g)前記予定残存部分の表面を覆う基本パターンと、(h)前記予定貫通部分のうち前記予定半侵食部分を前記はり構造体の幅方向両側から挟む両側部分と前記予定半侵食部分とのうちの少なくとも両側部分の表面を覆う補償パターンとを有するはり構造体製作方法。
IPC (4件)：
B81C 1/00
, B81B 3/00
, G02B 26/08
, G02B 26/10
B81C1/00
, B81B3/00
, G02B26/08 E
, G02B26/10 B
, G02B26/10 C
, G02B26/10 104Z
2H041AA12
, 2H041AB14
, 2H041AC08
, 2H041AZ02
, 2H041AZ06
, 2H041AZ08
, 2H045AB06
, 2H045AB73
, 2H045BA13
, 2H045BA24
, 2H045DA02
, 2H045DA11
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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