特許

J-GLOBAL ID：200903007863115477

超低屈折率多孔質SOG膜の作製方法及びこの超低屈折率多孔質SOG膜を用いたディスプレイ用窓材

発明者： 中山 高博 ,  小野 一修 ,  三浦 治 ,  村上 裕彦 ,  山田 和弘 ,  玉川 孝一 ,  浮島 禎之 ,  伊藤 正博
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (1件)： 北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-359178
公開番号（公開出願番号）：特開2003-158125
出願日： 2001年11月26日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】例えばディスプレイ用窓材の実用化のための要求水準に適合した小さな膜厚と平坦な膜表面とを有し、簡素な多層膜積層構造の窓材を形成し得る超低屈折率薄膜を作製する方法と、この超低屈折率薄膜を用い、輝度ムラが少なく広い視野角で高効率の発光を取り出すことが可能なディスプレイ用窓材を提供する。【解決手段】薄膜として成膜されたときに、室温において1.30〜1.46程度の屈折率を有するような低屈折率材料を塗布した基板を、200〜500°Cの温度範囲、及び、1〜105Paの圧力範囲の空気または不活性ガス雰囲気下で焼成処理して多孔質SiO2膜として超低屈折率多孔質SOG膜を得る。この超低屈折率多孔質SOG膜は、2μm以下の膜厚と±10Å範囲内の膜厚の散布度とを有して構成できるので、実用化のための要求水準に合致したディスプレイ用窓材の透明基板と透明電極との間の中間層として用いることができる。

請求項（抜粋）：

低屈折率材料を塗布した基板を焼成処理して多孔質SiO2膜を得ることを特徴とする超低屈折率多孔質SOG膜の作製方法。

IPC (4件)：

H01L 21/316 ,  H01L 31/04 ,  C01B 33/12 ,  C03C 17/25

FI (4件)：

H01L 21/316 G ,  C01B 33/12 C ,  C03C 17/25 Z ,  H01L 31/04 F

Fターム (26件)：

4G059AA07 ,  4G059AB09 ,  4G059AC09 ,  4G059EA05 ,  4G059EB05 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072FF01 ,  4G072FF09 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH29 ,  4G072LL11 ,  4G072LL17 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072UU02 ,  4G072UU21 ,  5F051BA16 ,  5F051CB13 ,  5F051HA04 ,  5F051HA20 ,  5F058BA20 ,  5F058BB07 ,  5F058BC01 ,  5F058BJ02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 気孔を有する反射防止膜とその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-088609   出願人：科学技術振興事業団
• シリカ系膜の形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-011088   出願人：ジェイエスアール株式会社
• 半導体装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-261487   出願人：松下電器産業株式会社
• 薄膜トランジスタ及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-105304   出願人：ソニー株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 超低誘電率多孔質SOG膜 ISM1.5