特許
J-GLOBAL ID：200903008004459047
表面修飾メソポーラスシリカ、並びにそれを用いた樹脂添加用スラリー組成物、樹脂用充填剤、樹脂組成物、高周波用電子部品及び高周波回路用基板。
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
小西 富雅
, 中村 知公
, 萩野 幹治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-279725
公開番号（公開出願番号）：特開2009-107863
出願日： 2007年10月27日
公開日（公表日）： 2009年05月21日
要約：
【課題】メソポーラスシリカの表面に存在するシラノール基の化学修飾が充分なされており、誘電率の低い表面修飾メソポーラスシリカ、並びにそれを用いた樹脂添加用スラリー組成物、樹脂用充填剤及び樹脂組成物を提供する。【解決手段】細孔径が1.5nm以上のメソポーラスシリカの表面に存在するシラノール基が疎水性の官能基で化学修飾されている。メソポーラスシリカの平均細孔径は1.5nm以上と大きいため、化学修飾するための試薬が細孔内部まで入り易く、疎水性の官能基で化学修飾される修飾率が高くなり、細孔内部においても、誘電率を下げる効果に寄与する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
平均細孔径が1.5nm以上のメソポーラスシリカの表面に存在するシラノール基が疎水性の官能基で化学修飾されていることを特徴とする表面修飾メソポーラスシリカ。
IPC (3件)：
C01B 37/02
, C08L 101/00
, C08K 3/36
C01B37/02
, C08L101/00
, C08K3/36
4G073BB57
, 4G073BB58
, 4G073BB60
, 4G073BB71
, 4G073BC05
, 4G073BC10
, 4G073CZ54
, 4G073FF05
, 4G073GA13
, 4G073GA28
, 4G073UB19
, 4J002AA021
, 4J002CC031
, 4J002CD001
, 4J002CF211
, 4J002CH061
, 4J002CK021
, 4J002CM041
, 4J002DJ016
, 4J002FD016
, 4J002GQ00
, 4J002GQ05
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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