X線投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-048679
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246152
出願日： 1996年03月06日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】パターンが形成されたマスクにゴミが付着することを効果的に防ぐことが可能であり、その結果、露光時においてマスクパターンに対応して形成されるレジストパターンに欠陥が生じることを有効に防止することができるX線投影露光装置を提供すること。【解決手段】少なくとも、X線源1と、該X線源1から発生するX線20を所定位置に配置されたフォトマスク3に照射する照明光学系2と、該フォトマスク3のステージ4と、該フォトマスク3からのX線22を受けて該フォトマスク3に形成されたパターンを所定位置に配置されたウエハー6に投影結像する投影結像光学系5と、該ウエハ6のステージ7とを備えたX線投影露光装置において、前記フォトマスク3に近接させてフィルター8を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。

請求項（抜粋）：

少なくとも、X線源と、該X線源から発生するX線を所定位置に配置されたフォトマスクに照射する照明光学系と、該フォトマスクのステージと、該フォトマスクからのX線を受けて該フォトマスクに形成されたパターンを所定位置に配置されたウエハーに投影結像する投影結像光学系と、該ウエハのステージとを備えたX線投影露光装置において、前記フォトマスクに近接させてフィルターを設けたことを特徴とするX線投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G21K 5/02

FI (4件)：

H01L 21/30 531 A , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G21K 5/02 X

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開平4-003414
特開平4-240716
フオトマスク防塵用フイルムカバー
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-184072 出願人：旭化成工業株式会社

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審査官引用 (8件)

露光用マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-316126 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-240716
投影露光方法及び投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-159964 出願人：株式会社日立製作所

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