改良されたHFエッチ加工性能のためのイネーブル化化学物質の直接蒸気送達

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萼経夫 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-545779
公開番号（公開出願番号）：特表2001-503571
出願日： 1998年03月17日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：

【要約】フッ化水素/イネーブル化化学物質をベースとする清浄化またはエッチング加工、例えば二酸化ケイ素フィルムエッチング加工における、液体供給源からのイネーブル化化学物質ガスのおよびHFガスの直接の送達のための装置および方法。液体イネーブル化化学物質は、所望による加工圧力でキャリアガス無しに質量流量制御器を操作するに十分な蒸気圧を発生するために温度制御される。加工チャンバーに進入する前に、イネーブル化化学物質ガスは、HFおよび所望によりキャリアガスと前混合されるが、それら全ては互いに無関係な流量で供給される。この方法において蒸気圧を制御することにより、キャリアガスシステムを伴っては物理的に可能でない溶媒/HF/キャリアの混合物は、より大きな加工空間への試みを可能にする。

請求項（抜粋）：

HF/イネーブル化化学処理プロセスを使用して基材を気相エッチングまたは清浄化する装置であって、該装置は、 a)該基材を受けそして処理する外気から分離可能な加工チャンバーと、 b)エッチングガス混合物を該加工チャンバー中に提供するガス供給システムからなり、該ガス供給システムは、 I)キャリアガスを該加工チャンバーに、使用者によって決定された流量で所望により提供するように操作可能な不活性キャリアガス源と、 II)HFガスを該加工チャンバーに、該キャリアガスの流量に無関係な流量で所望により提供するように操作可能な無水HFガス源と、および III)周囲の温度および圧力で液体であるイネーブル化化学化合物からなるイネーブル化化学物質ガス源であって、該イネーブル化化学物質ガスを、該キャリアガスおよび該HFガスの双方の流量に無関係な流量で所望により提供するように操作可能なイネーブル化化学物質ガス源を含む装置。

FI (2件)：

H01L 21/302 P , H01L 21/306 D

引用特許：

審査官引用 (8件)

気相エッチング方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-107196 出願人：日本電気株式会社
エッチング方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-327907 出願人：日本電気株式会社, 日本エー・エス・エム株式会社
エッチング法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-009002 出願人：株式会社日立製作所

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