リソグラフィ装置、エキシマ・レーザ、およびデバイス製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 吉田裕 , 森徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-381198
公開番号（公開出願番号）：特開2006-179937
出願日： 2005年12月22日
公開日（公表日）： 2006年07月06日
要約：

【課題】リソグラフィ装置の粗密バイアスを改良する制御を提供すること。【解決手段】リソグラフィ・パターン印刷プロセスのCDピッチ依存性が、パターンを投影するために使用される放射線のスペクトル強度分布に関連している。CDピッチ依存性はシステム毎に異なることがあり、これがシステム間の粗密バイアスの不一致をもたらすことがある。本発明は、放射線の投影ビームを提供するための照明システムと、パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、基板を保持するための基板テーブルと、投影ビームの放射線強度のスペクトル分布を調節する制御装置とを有するリソグラフィ装置を提供することによってこの問題に対処している。スペクトル強度分布の調節は、粗密バイアスに関するデータ150に基づき、スペクトル帯域幅の拡大またはスペクトル強度分布の形状153の変更を含む。【選択図】図15

請求項（抜粋）：

放射線強度のスペクトル分布を有する電磁放射線のビームを提供するための放射線システムと、前記放射線のビームの断面にパターンを与えるように働くパターン形成デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、前記放射線のビームにパターンが形成された後に、該放射線のビームを前記基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、前記パターン内に第1のピッチおよび第2のピッチで配置されたフィーチャに関するデータであって、該フィーチャの対応する第1のプリント・サイズおよび第2のプリント・サイズを表すデータに基づいて、前記放射線強度のスペクトル分布の調節を提供するように構成および配置された制御装置とを有するリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 516C , G03F7/20 521 , H01L21/30 515F

Fターム (7件)：

5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CA04 , 5F046CB17 , 5F046DA01 , 5F046DD03 , 5F046DD06

引用特許：

審査官引用 (6件)

レーザ装置、露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-434733 出願人：キヤノン株式会社
リソグラフィ装置、エキシマ・レーザ及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-372999 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
リソグラフィ処理のためのレーザスペクトルエンジニアリング
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-516804 出願人：サイマーインコーポレイテッド

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