特許
J-GLOBAL ID：200903008183878847
多層回路基板製造用の露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-317551
公開番号（公開出願番号）：特開2002-333728
出願日： 2001年10月16日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：
【要約】【課題】 多層回路基板製造用の露光装置を提供する。【解決手段】 マスクマーク5と基板マーク7に基づいてホトマスク4とコア基板60の位置合わせを行い、該位置に応じてX線照射装置1の位置決めを実行する。その後、ビルドアップ層を形成するに当たり、X線照射装置1により下側からX線を基板マーク7に照射し、該基板マーク7を蛍光板3上に投影する。該蛍光板3の蛍光面39上の基板マーク7の像をCCDカメラ2によりホトマスク4上のマスクマーク5と重ね合わせて撮像し、基板マーク7とマスクマーク5の像の中心が一致するように露光ステージ8を駆動して基板6とホトマスク4の位置合わせを行う。
請求項（抜粋）：
複数の絶縁層と導電パターンを描いた複数の導電層とを有する多層回路基板を製造するための露光装置であって、多層回路を形成される基板に対向して配設され、該基板に形成する導電パターンを描いたホトマスクと、前記ホトマスク上に描かれたマスクマークと、多層回路を形成されるコア基板に形成されたX線により撮像可能で、ホトマスク側から視認可能な基板マークと、前記基板マークを含む領域にX線を照射するX線照射装置と、X線を可視光又は紫外線又は赤外線に変換可能であり、該X線に照射された該基板マークの像を投影する退避可能に装着された投影体と、前記基板マークとマスクマークに基づいて該基板とホトマスクの位置合わせを行うように、該基板又はホトマスクの一方又は両方を移動させる移動装置と、前記ホトマスクに描かれたパターンを前記基板上に露光する露光光源と、を備え;前記投影体を退避させておき、前記基板マークと前記マスクマークが所定の位置関係になるように、前記基板とホトマスクとの位置合わせを行い、次いで前記投影体を装着し、前記X線照射装置により基板マークを前記投影体に投影し、該投影像と前記マスクマークとが前記所定の位置関係になるように前記X線照射装置の位置を調整し、該位置調整されたX線照射装置により、前記基板マークを投影体に投影し、マスクマークと所定の位置関係になるように基板とホトマスクの位置合わせを行う、ことを有することを特徴とする露光装置。
IPC (5件)：
G03F 9/00
, G03F 1/16
, G03F 7/20 503
, H05K 3/00
, H05K 3/46
G03F 9/00 Z
, G03F 1/16 A
, G03F 7/20 503
, H05K 3/00 H
, H05K 3/46 Y
2H095BA10
, 2H095BE03
, 2H097CA15
, 2H097KA03
, 2H097KA12
, 2H097KA13
, 2H097KA20
, 2H097KA28
, 2H097LA09
, 5E346GG18
, 5E346HH11
