光学的近接補正

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-131820
公開番号（公開出願番号）：特開2001-358070
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 IC等の製造に使用するリソグラフィ投影装置で、解像度向上のための軸外し照明を行うために必要な、0次回折と1次回折の比を操作できる効率的なマスクを容易に製作する簡単なシステムおよび方法を提供すること。【解決手段】主形態(2118)の近くに中間調化散乱バー(2120)を置くか、または主形態自体を中間調化(2126)することによって、主形態そのものは従来より太くしながら、光学的近接効果を排除して1次回折に対して適当な比率の0次回折を残し、効率的な移相マスクを容易に入手出来る材料および簡単な方法で制作し、最終的に所望の性能の投影画像を得る。

請求項（抜粋）：

0次回折および±1次回折を含む画像を材料上に転写する方法であって:少なくとも一つの非減衰、中間調、移相形態を含む移相マスクを製作する工程;および放射線が上記マスクを横切り且つ上記材料に入射するように、上記マスクを軸外し照明する工程を含む方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 1/08 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 528 , H01L 21/30 502 P

Fターム (5件)：

2H095BA01 , 2H095BB03 , 5F046AA25 , 5F046BA08 , 5F046CB17

引用特許：

出願人引用 (11件)

特開平4-204653
特開平4-268715
マスクとそれを用いた投影露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-177816 出願人：日本電信電話株式会社

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審査官引用 (14件)

パターン露光用レチクル及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-049061 出願人：富士通株式会社
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-186673 出願人：株式会社東芝
マスクおよびパタン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-158189 出願人：日本電信電話株式会社

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