露光装置、及びその部材の洗浄方法、露光装置のメンテナンス方法、メンテナンス機器、並びにデバイス製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 青山正和 , 西和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-177601
公開番号（公開出願番号）：特開2006-165502
出願日： 2005年06月17日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：

【課題】液浸領域の液体に接触する部材の汚染に起因する露光精度及び計測精度の劣化を防止できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置EXSは、投影光学系PLの像面側に液体LQの液浸領域AR2を形成し、投影光学系PLと液浸領域AR2の液体LQとを介して基板Pを露光するものであって、液浸領域AR2を形成するための液体LQに接触する基板ステージPSTの上面31などに対して、光洗浄効果を有する所定の照射光Luを照射する光洗浄装置80を備えている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置において、前記液浸領域を形成するための液体に接触する部材に対して、光洗浄効果を有する所定の照射光を照射する光洗浄装置を備えた露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 514E , G03F7/20 521 , H01L21/30 515D

Fターム (6件)：

5F046AA17 , 5F046AA28 , 5F046BA03 , 5F046BA05 , 5F046CB01 , 5F046CB24

引用特許：

出願人引用 (1件)

国際公開第99/49504号パンフレット

審査官引用 (7件)

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-172029 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-417261 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
投影露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-239562 出願人：株式会社ニコン

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