特許
J-GLOBAL ID：200903044070079227

光学部品の洗浄機構を搭載した液浸投影露光装置及び液浸光学部品洗浄方法

発明者：
渡辺 俊二

渡辺 俊二 について

, 
斉藤 忠彦

斉藤 忠彦 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 佐野 弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-305749
公開番号（公開出願番号）：特開2005-079222
出願日： 2003年08月29日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：
【課題】液浸法を用いた投影露光装置において、レンズ表面に純水など液体媒体の液滴が残留したまま乾燥すると、液体媒体に含まれる汚染物質が光学部品接液面に固着することによって、露光光の照度ムラなどを引き起こし、ひいては回路焼付不良等を引き起こすこともある。そのため、水シミは完全に洗浄除去する必要がある。 【解決手段】光学部品12の接液面12aの残留液体を洗浄液体を用いて除去することを特徴とする光学部品の洗浄機構を備えた液浸投影露光装置を提供する。 【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光学部品と露光対象物との間を液体媒体で満たして解像度を高めた液浸投影露光装置において、前記光学部品の接液面における前記液体媒体の残留液体を洗浄液体を用いて除去可能としたことを特徴とする光学部品の洗浄機構を備えた液浸投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2件)：
H01L21/30 503G ,  G03F7/20 521
Fターム (5件)：
5F046AA17 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB12 ,  5F046CB26
引用特許：
審査官引用 (5件)
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