特許
J-GLOBAL ID：200903008418925945
ウェハ移載装置、及び該装置を備えた半導体製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
内藤 哲寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-210017
公開番号（公開出願番号）：特開2001-035899
出願日： 1999年07月26日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：
【要約】【課題】リニアモータによってウェハ移載ロボットが往復直線移動する構成のウェハ移載装置において、ウェハに塵埃が付着しないようにすることである。【解決手段】ウェハ移載ロボットRを往復直線移動させるためのリニアモータMの二次側11が取付けられた固定ベース9を、ウェハ移載装置Aの装置本体1の長手方向に沿って、しかも、縦方向に取付け、清浄空気供給装置4からの清浄空気Kの気流に従って落下する塵埃が、前記固定ベース9、及び前記二次側11の上面に堆積することなく、そのまま装置本体1の底面部1cに設けられた排気ファン5に吸引されて、排気されるようにする。
請求項（抜粋）：
装置本体の正面壁の内側に、その長手方向に沿って配設されたリニアモータと、前記リニアモータの一次側又は二次側に取付けられ、同方向に沿って往復直線移動可能なウェハ移載ロボットとを備え、装置本体の正面壁の外側に装着されたロードポート装置の上面に設置されたウェハキャリアからウェハを1枚ずつ取り出しながらウェハ処理装置に移載するためのウェハ移載装置において、前記リニアモータが、縦方向に取付けられていることを特徴とするウェハ移載装置。
Fターム (14件)：
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031GA44
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031LA08
, 5F031MA04
, 5F031NA02
, 5F031NA10
, 5F031NA15
, 5F031PA26
