特許

J-GLOBAL ID：200903008478619061

イメージの忠実度およびスループットに対する光源の最適化

発明者： グラニック, ユーリ
出願人/特許権者： メンター・グラフィクス・コーポレーション
代理人 (3件)： 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-552144
公開番号（公開出願番号）：特表2007-520892
出願日： 2005年01月21日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：

画素が同時に照射される場合においてフィーチャーの転写パターンの誤差が最小限になるよう、フィーチャーの所望のパターンを転写するために照射源を最適化し、光源を画素に分割し、各画素の最適な密度を決定するシステムおよび方法。一実施例では、画素の解は、明るく連続的かつ平坦な解の制約を受ける。別の実施例では、光源最適化および分解能向上の技術は、フィーチャーの転写パターンの誤差を最小限にするために反復的に実行される。

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィー処理によってウェハ上に所望のフィーチャーパターンを生成するために光源を最適化する方法であって、 レイアウトデータベースの少なくとも一部を受信し、ウェハ上に生成される前記所望のフィーチャーパターンを選択するステップと、 数学的関係を利用して、光源における複数の画素密度および前記ウェハ上の一点への光源の画素の寄与と、前記所望のフィーチャーパターンとを関連づけるステップと、 所定の画素密度における画素の同時照射時に、前記ウェハ上に生成されるフィーチャーパターンと前記所望のフィーチャーパターンの間の誤差が最小になるよう、前記数学的関係を利用して光源の画素密度を決定するステップと を含む、方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 515A

Fターム (4件)：

5F046BA04 ,  5F046CA10 ,  5F046CB22 ,  5F046CB27

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 照明及びレチクルの最適化により、印刷ラインの形状歪みを最小化するシステム及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-016872   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
• 露光装置のアパーチュア設計のためのシミュレーション方法及び装置、並びにシミュレーション方法を記録した記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-177068   出願人：三星電子株式会社
• 特定のマスク・パターンのための照明の最適化
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-097334   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 照明を最適化する方法および投影結像装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-128796   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション