ポジ型感放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-098671
公開番号（公開出願番号）：特開平7-306532
出願日： 1994年05月12日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：

【要約】【目的】紫外線、遠紫外線リソグラフィーを利用する半導体集積回路の製造に極めて有効なレジスト、すなわち、良好なプロファイルと高解像力、耐ドライエッチング性、耐熱性を有する感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】下記一般式(1)で表される重合体及び感放射線剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。【化1】ここで、Ra、Rb、Rc、Rd:同一でも異なってもよく、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アリールカルボニル基、アシロキシ基、アシル基もしくは環状アルキル基、k:1〜30の整数、l+n:1〜100の整数、m:1〜50の整数、p1,p2,p3:1〜3の整数、q1:1〜4の整数、を表す。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される重合体及び感放射線剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。【化1】ここで、Ra、Rb、Rc、Rd:同一でも異なってもよく、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アリールカルボニル基、アシロキシ基、アシル基もしくは環状アルキル基、k:1〜30の整数、l+n:1〜100の整数、m:1〜50の整数、p1,p2,p3:1〜3の整数、q1:1〜4の整数、を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/023 511 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平2-010351
特開平2-010351
特開平4-120544

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