特許
J-GLOBAL ID：200903030336665452
レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-285186
公開番号（公開出願番号）：特開平6-118649
出願日： 1992年09月30日
公開日（公表日）： 1994年04月28日
要約：
【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、保存安定性、及び耐熱性などのレジスト特性に優れ、かつ、これらの諸特性が高度にバランスしているレジスト材料を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂(A)、酸不安定性基を有する化合物(B)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(C)を含有するレジスト組成物であって、該酸不安定性基を有する化合物が特定のフェノール化合物の水酸基の少なくとも一部を酸不安定性基で置換した化合物であることを特徴とするレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性フェノール樹脂(A)、酸不安定性基を有する化合物(B)、及び活性光線の照射により酸を生成可能な化合物(C)を含有するレジスト組成物であって、該酸不安定性基を有する化合物が一般式(I)〜(VIII)で示されるフェノール化合物の水酸基の少なくとも一部を酸不安定性基で置換した化合物であることを特徴とするレジスト組成物。一般式(I)【化1】R1〜R6:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R7〜R10:水素、アルキル基一般式(II)【化2】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R11:水素、アルキル基一般式(III)【化3】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R14:水素、アルキル基一般式(IV)【化4】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R10:水素、アルキル基A :単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリーレン基、置換アリーレン基一般式(V)【化5】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R12:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VI)【化6】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R11:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VII)【化7】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R9〜R10:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VIII)【化8】R1〜R6:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基R7:水素、アルキル基
IPC (5件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/028
, H01L 21/027
