特許
J-GLOBAL ID：200903008662223588

有機光学結晶のレーザー被照射耐性の評価方法および評価された有機光学結晶

発明者：
内田 裕久

内田 裕久 について


出願人/特許権者：
アークレイ株式会社

アークレイ株式会社 について


代理人 (4件)： 辻丸 光一郎 ,  中山 ゆみ ,  吉田 玲子 ,  伊佐治 創
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-031123
公開番号（公開出願番号）：特開2009-192275
出願日： 2008年02月12日
公開日（公表日）： 2009年08月27日
要約：
【課題】有機光学結晶にレーザー光を照射して連続的に使用するために、あらかじめ非破壊で容易かつ簡便な有機光学結晶のレーザー被照射耐性を評価する方法を確立すること、またその評価方法によって評価されたレーザー被照射耐性を有する有機光学結晶を提供する。【解決手段】有機光学結晶にレーザーを照射する前に回折解析工程により、有機光学結晶のレーザー被照射耐性の有無を判断する評価方法を確立することができ、またその評価方法によって評価されたレーザー被照射耐性を有する有機光学結晶を非破壊で容易かつ簡便に幅広い分野へ提供することができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
有機光学結晶のレーザー被照射耐性の評価方法において、有機光学結晶にレーザーを照射する前に回折解析工程により、有機光学結晶のレーザー被照射耐性の有無を評価することを特徴とする有機光学結晶のレーザー被照射耐性の評価方法。
IPC (2件)：
G01N 17/00 ,  G01N 23/20
FI (2件)：
G01N17/00 ,  G01N23/20
Fターム (26件)：
2G001AA01 ,  2G001AA03 ,  2G001AA04 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001CA04 ,  2G001DA09 ,  2G001FA01 ,  2G001FA02 ,  2G001GA13 ,  2G001KA08 ,  2G001KA12 ,  2G001NA01 ,  2G001NA30 ,  2G001RA02 ,  2G001RA03 ,  2G050AA02 ,  2G050AA07 ,  2G050BA09 ,  2G050BA10 ,  2G050CA01 ,  2G050EA01 ,  2G050EA03 ,  2G050EB07 ,  2G050EC01
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (7件)
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