特許
J-GLOBAL ID：200903008961517962
X線発生制御方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-157720
公開番号（公開出願番号）：特開2005-340009
出願日： 2004年05月27日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】 電子ビーム量およびX線量を正確に制御することができるX線発生制御方法およびその装置を提供することを目的とする。【解決手段】 ターゲット上に常に結像される条件の下では、ターゲットに到達する制御されるべき電子ビーム量、すなわちターゲット電流(輝度)を入力すれば(ステップS2)、演算によって第1集束コイルの励起強度、さらには他方の第2集束コイルの励起強度を決定することができる(ステップS3,S4)。そして、これらの集束コイルの励起強度に基づいて各集束コイルを操作すること(ステップS5)で、ターゲット電流が制御される。ターゲット電流にX線量は比例するので、これらの操作量である励起強度に基づいて集束コイルを操作することで、X線量も制御される。その結果、ウェネルト電極を操作してウェネルト電極付近の電子ビーム量(エミッション電流)を制御するとともにX線量を制御する手法と比較すると、電子ビーム量およびX線量を正確に制御することができる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
複数の集束手段により電子ビームを集束させて、電子ビームのターゲットへの衝突によりX線を発生させることで、X線の発生を制御するX線発生制御方法であって、(A)複数の集束手段のうち2つの集束手段について、所定の条件において一方の集束手段を操作する操作量、またはターゲットに到達する電子ビーム量あるいはX線量のいずれか1つを決定すればそれに連動して残りを決定する工程、(B)前記所定の条件において前記一方の集束手段の操作量を決定すればそれに連動して他方の集束手段の操作量を決定する工程を備え、前記(A)および(B)の工程により前記電子ビーム量を制御するとともにX線量を制御することを特徴とするX線発生制御方法。
IPC (4件)：
H01J35/14
, G21K5/00
, G21K5/02
, H05G1/00
H01J35/14
, G21K5/00 A
, G21K5/02 X
, H05G1/00 E
4C092AA01
, 4C092AB10
, 4C092AC01
, 4C092AC08
, 4C092CE07
, 4C092CF47
, 4C092CJ13
, 4C092DD01
