酸性電気銅めっき液及び電気銅めっき方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：三枝英二 , 掛樋悠路 , 藤井淳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-301392
公開番号（公開出願番号）：特開2007-107074
出願日： 2005年10月17日
公開日（公表日）： 2007年04月26日
要約：

【課題】良好な埋め込み性(ビアフィリング性)と優れた均一電着性を同時に併せ持ち、スルホールとブラインドビアホールの両方を含む被めっき物に対しても、電気的に信頼性の高い銅めっき皮膜を形成することが可能な新規な銅めっき液を提供する。【解決手段】銅イオン、並びに有機酸及び無機酸から選ばれた少なくとも一種の酸成分を必須成分として含有する水溶液を基本めっき浴とする酸性電気銅めっき液であって、(1)アルキレンジアミン類及びポリアルキレンポリアミン類からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリアミン、(2)二塩基性カルボン酸系化合物、並びに(3)アルデヒド類、エピハロヒドリン類、α,γ-ジハロ-β-ヒドリン類、グリシジル化合物及びイソシアネート類からなる群から選ばれる少なくとも一種の架橋性化合物、からなる三成分を反応させて得られる水溶性樹脂を含有することを特徴とする酸性電気銅めっき液。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

銅イオン、並びに有機酸及び無機酸から選ばれた少なくとも一種の酸成分を必須成分として含有する水溶液を基本めっき浴とする酸性電気銅めっき液であって、(1)アルキレンジアミン類及びポリアルキレンポリアミン類からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリアミン、(2)二塩基性カルボン酸系化合物、並びに(3)アルデヒド類、エピハロヒドリン類、α,γ-ジハロ-β-ヒドリン類、グリシジル化合物及びイソシアネート類からなる群から選ばれる少なくとも一種の架橋性化合物、からなる三成分を反応させて得られる水溶性樹脂を含有することを特徴とする酸性電気銅めっき液。

IPC (7件)：

C25D 3/38 , C25D 7/00 , C25D 7/12 , H05K 3/18 , H05K 3/42 , C08G 69/50 , C08L 77/06

FI (7件)：

C25D3/38 , C25D7/00 J , C25D7/12 , H05K3/18 F , H05K3/42 610B , C08G69/50 , C08L77/06

Fターム (90件)：

4J001DA01 , 4J001DB09 , 4J001DD07 , 4J001DD13 , 4J001EB04 , 4J001EB06 , 4J001EB07 , 4J001EB08 , 4J001EB09 , 4J001EB14 , 4J001EB35 , 4J001EB36 , 4J001EB37 , 4J001EB75 , 4J001EC05 , 4J001EC06 , 4J001EC08 , 4J001EC85 , 4J001EC86 , 4J001EC87 , 4J001EE08C , 4J001EE23C , 4J001EE24B , 4J001EE25B , 4J001EE38B , 4J001EE44C , 4J001EE57B , 4J001EE58C , 4J001FA01 , 4J001FB03 , 4J001FC03 , 4J001FD03 , 4J001FD05 , 4J001GA13 , 4J001GE11 , 4J001JA20 , 4J001JB02 , 4J001JB34 , 4J001JC08 , 4J002CH022 , 4J002CL071 , 4J002DD046 , 4J002DD048 , 4J002DE096 , 4J002DE246 , 4J002DG046 , 4J002DG047 , 4J002DH046 , 4J002EV049 , 4J002EV149 , 4J002EV237 , 4J002EV239 , 4J002EV256 , 4J002EV259 , 4J002FD116 , 4J002FD117 , 4J002FD208 , 4J002FD209 , 4J002FD312 , 4J002GQ00 , 4J002HA04 , 4K023AA19 , 4K023BA06 , 4K023BA08 , 4K023BA29 , 4K023CB04 , 4K023CB05 , 4K023CB07 , 4K023CB11 , 4K023CB16 , 4K023CB32 , 4K023CB33 , 4K023DA02 , 4K024AA09 , 4K024AB01 , 4K024BA09 , 4K024BA15 , 4K024BB11 , 4K024BB12 , 4K024CA02 , 5E317AA24 , 5E317BB12 , 5E317CC33 , 5E317CC35 , 5E317GG20 , 5E343AA07 , 5E343BB24 , 5E343CC78 , 5E343DD43 , 5E343GG06

引用特許：

出願人引用 (1件)

銅めっき浴およびこれを用いる基板のめっき方法
公報種別：再公表公報出願番号：JP2002004509 出願人：荏原ユージライト株式会社, 株式会社荏原製作所

審査官引用 (5件)

水性めっき浴並びに銅皮膜を電解析出するための方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-539194 出願人：アトーテヒドイッチュラントゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
新規なキレート剤
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-096509 出願人：味の素株式会社
レベラー化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-157811 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー

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