特許
J-GLOBAL ID:200903009073930696
非晶質シリカ多孔質材料及びその製造方法並びに分子ふるい膜、触媒担体及び吸着剤
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (2件):
小島 清路
, 谷口 直也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-208783
公開番号(公開出願番号):特開2004-051397
出願日: 2002年07月17日
公開日(公表日): 2004年02月19日
要約:
【課題】ミクロ細孔の容積の割合の高い非晶質シリカ多孔質材料及びその製造方法並びに該非晶質シリカ多孔質材料を用いた分子ふるい膜、触媒担体及び吸着剤を提供する。【解決手段】本非晶質シリカ多孔質材料は、直径が2nm以下である細孔の容積の合計が全細孔容積に対して70%以上である。直径が1nm以下である細孔の容積の合計は、直径が2nm以下である細孔の容積の合計に対して90%以上とすることができる。また、細孔容積が0.1〜0.6ml/gであり、且つ比表面積が200〜800m2/gとすることができる。本非晶質シリカ多孔質材料の製造方法は、分子中に炭素数1〜3のアルコキシ基を有するポリシラザンを400〜1000°Cで熱処理するものである。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
直径が2nm以下である細孔の容積の合計が全細孔容積に対して70%以上である非晶質シリカ多孔質材料。
IPC (8件):
C01B33/12
, B01D71/02
, B01J20/10
, B01J20/28
, B01J21/08
, B01J32/00
, B01J35/10
, C01B37/00
FI (8件):
C01B33/12 Z
, B01D71/02
, B01J20/10 A
, B01J20/28 Z
, B01J21/08 Z
, B01J32/00
, B01J35/10 301Z
, C01B37/00
Fターム (66件):
4D006GA41
, 4D006JA02C
, 4D006MB03
, 4D006MB04
, 4D006MC03
, 4D006NA46
, 4D006PB66
, 4D006PB70
, 4G066AA22A
, 4G066AA22B
, 4G066AB06A
, 4G066AD20A
, 4G066BA23
, 4G066BA24
, 4G066BA25
, 4G066BA26
, 4G066FA21
, 4G066FA34
, 4G066FA37
, 4G069AA01
, 4G069AA08
, 4G069BA02A
, 4G069BA02B
, 4G069BA22C
, 4G069BE06C
, 4G069BE13C
, 4G069BE32C
, 4G069DA05
, 4G069EA01Y
, 4G069EC03X
, 4G069EC04X
, 4G069EC06X
, 4G069EC07X
, 4G069EC11X
, 4G069EC12X
, 4G069EC13X
, 4G069EC26
, 4G069FB34
, 4G069FC02
, 4G069FC07
, 4G072AA25
, 4G072BB13
, 4G072BB15
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH30
, 4G072RR01
, 4G072TT05
, 4G072TT09
, 4G072UU11
, 4G072UU15
, 4G072UU17
, 4G073BA63
, 4G073BB60
, 4G073BD03
, 4G073BD11
, 4G073CZ53
, 4G073FB41
, 4G073FC07
, 4G073FE04
, 4G073GA12
, 4G073GA13
, 4G073GA14
, 4G073UA01
, 4G073UA02
, 4G073UA06
引用特許:
前のページに戻る