特許
J-GLOBAL ID：200903009141650656
光導波路及びその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-230176
公開番号（公開出願番号）：特開2001-051144
出願日： 1999年08月17日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：
【要約】【課題】 リブ型半導体光導波路のコア部分の強度を上げ、切断時の光導波路の破損をなくする。【解決手段】 半導体基板の表面上に絶縁膜を設け、その上に半導体材料からなる光導波路のコア部を設け、その上に石英系ガラスからなる保護層を前記コア部の高さ以上に設けた光導波路である。また、2枚の半導体基板にそれぞれ熱酸化膜を形成し、この熱酸化膜を形成した2枚の基板を張り合わせ、この張り合わせた基板の片方の基板のみを高精度に研磨し、その後、コア部分が残るよう周囲をエッチングしてコア部分を形成し、その上に石英系ガラスを前記コア部の高さ以上に堆積して保護層を形成する光導波路の作製方法である。
請求項（抜粋）：
半導体基板の表面上に絶縁膜を設け、その上に半導体材料からなる光導波路のコア部を設け、その上に石英系ガラスからなる保護層を前記コア部の高さ以上に設けたことを特徴とする光導波路。
Fターム (10件)：
2H047KA02
, 2H047KA05
, 2H047KA12
, 2H047LA01
, 2H047PA21
, 2H047PA24
, 2H047QA02
, 2H047QA07
, 2H047RA00
, 2H047TA42
