特許
J-GLOBAL ID：200903009222757862
ステージ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
三浦 邦夫
, 平山 巌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-020549
公開番号（公開出願番号）：特開2007-199583
出願日： 2006年01月30日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：
【課題】従来のステージ装置に比べて低コストで製造可能であり、しかもステージ板移動時の抵抗を極力小さく出来るステージ装置を提供する。【解決手段】ステージ板40、41と一体的に移動し駆動用ヨーク板32より飽和磁束量が少なくベースヨーク板31及び磁石MX、MYとの間に吸着用磁気回路MCCX、MCCYを構成する吸着用ヨーク板50と、吸着用ヨーク板と磁石の間の隙間に位置し、吸着用磁気回路の磁力を受けることにより吸着用ヨーク板と磁石とに吸着する磁性流体MLと、を備えることを特徴とするステージ装置。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
磁石を固着したベースヨーク板と、
該ベースヨーク板と略平行に対向する駆動用ヨーク板と、
両ヨーク板の間に位置するスライド可能なステージ板と、
飽和磁束量が上記両ヨーク板よりも少ない吸着用ヨーク板と駆動用コイルとを重ねて構成した、上記ステージ板と一緒に移動する駆動部と、
上記吸着用ヨーク板と上記磁石との間に充填され、上記ステージ板をスライド移動可能に吸着保持する磁性流体と、を備えることを特徴とするステージ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
5C122DA01
, 5C122EA41
, 5C122EA55
, 5C122FB23
, 5C122HA82
出願人引用 (1件)
-
像ブレ補正装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-135170
出願人：ペンタックス株式会社
審査官引用 (6件)
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