特許
J-GLOBAL ID:200903009235220779

光学材料及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 雨宮 正季
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-134743
公開番号(公開出願番号):特開平8-301695
出願日: 1995年05月08日
公開日(公表日): 1996年11月19日
要約:
【要約】【目的】 発振波長の設計が可能な狭帯域レーザー、狭帯域フィルターが提供できると共に、少ない製造工程で任意の表示パターンの形成ができ、さらに消去が可能な表示素子を提供する。【構成】 光学材料の合成工程、あるいは合成後の熱処理工程の少なくとも一つの工程において、活性剤イオンの光吸収波長帯域内の波長の光、あるいは活性剤イオンの光吸収波長帯域の波長を含む光を照射し、且つ、照射光の強度あるいは、照射時間を空間的に変調して照射することにより、活性剤元素の価数状態が空間的に変調されてなる光学材料および製造方法を特徴とする。【効果】 発振波長の設計が可能な狭帯域レーザー、狭帯域フィルターが提供できると共に、少ない製造工程で任意の表示パターンの形成ができ、さらに消去が可能な表示素子を提供できる。
請求項(抜粋):
希土類元素あるいは遷移金属元素から選択される少なくとも1種の元素を活性剤として含有する光学材料であり、且つ、活性剤元素のうち少なくとも1種の価数状態が空間的に変調されてなることを特徴とする光学材料。
IPC (5件):
C30B 29/28 ,  C30B 33/04 ,  G02F 1/03 501 ,  H01S 3/16 ,  H01S 3/18
FI (5件):
C30B 29/28 ,  C30B 33/04 ,  G02F 1/03 501 ,  H01S 3/16 ,  H01S 3/18
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (1件)

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