特許
J-GLOBAL ID:200903009311785683

非晶質炭素膜、その形成方法、および非晶質炭素膜を備えた高耐摩耗摺動部材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-523911
公開番号(公開出願番号):特表2008-522020
出願日: 2005年11月24日
公開日(公表日): 2008年06月26日
要約:
本発明の非晶質炭素膜は、主成分としての炭素と、非晶質炭素膜全体を100at%とした場合に、0.1at%以上10at%以下のケイ素と、を含有する。炭素は、炭素の全体量を100at%とした場合に、60at%以上90at%以下のsp2混成軌道を持つ炭素を含む。また、本発明の非晶質炭素膜の形成方法を開示している。【図】
請求項(抜粋):
炭素の全体量を100at%とした場合に、60at%以上90at%以下のsp2混成軌道を持つ炭素を含む主成分としての炭素と、 非晶質炭素膜全体を100at%とした場合に、0.1at%以上10at%以下のケイ素と、 を含有することを特徴とする非晶質炭素膜。
IPC (4件):
C23C 16/26 ,  C01B 31/02 ,  C10M 103/02 ,  C10M 103/06
FI (4件):
C23C16/26 ,  C01B31/02 101Z ,  C10M103/02 Z ,  C10M103/06 E
Fターム (28件):
4G146AA01 ,  4G146AA17 ,  4G146AB07 ,  4G146AC27A ,  4G146AC27B ,  4G146AC30B ,  4G146AD02 ,  4G146AD26 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BC09 ,  4G146BC46 ,  4H104AA04A ,  4H104AA21A ,  4H104LA03 ,  4H104PA41 ,  4H104QA11 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030BA27 ,  4K030BB05 ,  4K030CA02 ,  4K030CA05 ,  4K030CA07 ,  4K030DA02 ,  4K030FA01 ,  4K030JA06 ,  4K030LA23
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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