特許
J-GLOBAL ID:200903009311785683
非晶質炭素膜、その形成方法、および非晶質炭素膜を備えた高耐摩耗摺動部材
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大川 宏
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-523911
公開番号(公開出願番号):特表2008-522020
出願日: 2005年11月24日
公開日(公表日): 2008年06月26日
要約:
本発明の非晶質炭素膜は、主成分としての炭素と、非晶質炭素膜全体を100at%とした場合に、0.1at%以上10at%以下のケイ素と、を含有する。炭素は、炭素の全体量を100at%とした場合に、60at%以上90at%以下のsp2混成軌道を持つ炭素を含む。また、本発明の非晶質炭素膜の形成方法を開示している。【図】
請求項(抜粋):
炭素の全体量を100at%とした場合に、60at%以上90at%以下のsp2混成軌道を持つ炭素を含む主成分としての炭素と、
非晶質炭素膜全体を100at%とした場合に、0.1at%以上10at%以下のケイ素と、
を含有することを特徴とする非晶質炭素膜。
IPC (4件):
C23C 16/26
, C01B 31/02
, C10M 103/02
, C10M 103/06
FI (4件):
C23C16/26
, C01B31/02 101Z
, C10M103/02 Z
, C10M103/06 E
Fターム (28件):
4G146AA01
, 4G146AA17
, 4G146AB07
, 4G146AC27A
, 4G146AC27B
, 4G146AC30B
, 4G146AD02
, 4G146AD26
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BC09
, 4G146BC46
, 4H104AA04A
, 4H104AA21A
, 4H104LA03
, 4H104PA41
, 4H104QA11
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030BA27
, 4K030BB05
, 4K030CA02
, 4K030CA05
, 4K030CA07
, 4K030DA02
, 4K030FA01
, 4K030JA06
, 4K030LA23
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (6件)
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