特許
J-GLOBAL ID：200903009338827809
プロセス材料を混合する方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 星野 修
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-515403
公開番号（公開出願番号）：特表2004-504930
出願日： 2001年07月31日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
プロセス材料を混合し且つ供給する方法及び装置である。本方法及び装置は、超高純度の化学物質の混合、半導体ウェハをポリシングするための磨耗性スラリーとその他の化学物質との混合、化学物質の高精度の混合に特に適用可能である。本装置はプロセス材料を混合サブシステムに混合し、混合サブシステムにて材料がスタティックミキサーにより混合される分配サブシステムを備えることができる。この方法は、プロセス材料を分配サブシステムにて供給し且つプロセス材料をスタティックミキサー内で混合することを含めることができる。
請求項（抜粋）：
混合システムにおいて、
第一の材料供給管と、
第二の材料供給管と、
第一及び第二の材料供給管の下流にて流体的に接続されたスタティックミキサーと、
第一及び第二の材料供給管の少なくとも一方に配置された第一の流れ制御装置と、スタティックミキサーの下流に配置された第一のセンサと、第一のセンサにより提供されるセンサ信号に基づいて制御信号を第一の流れ制御装置に提供する論理コードを備えるコントローラとを有するプロセス制御システムとを備える、混合システム。
IPC (3件)：
B01F3/08
, B01F5/00
, B01F15/04
B01F3/08 Z
, B01F5/00 D
, B01F15/04 D
4G035AB37
, 4G035AB54
, 4G035AC26
, 4G035AE02
, 4G035AE13
, 4G037BA01
, 4G037BC03
, 4G037BD06
, 4G037BD07
, 4G037BD10
, 4G037EA01
