特許

J-GLOBAL ID：200903009676648588

193NMリソグラフィーのためのヒドロキシ-アミノ熱硬化下塗り

発明者： パトリック・フォスター ,  シドニー・ジョージ・スレイター ,  トマス・スタインハウスラー ,  アンドルー・ジェイ・ブレイクニー ,  ジョン・ジョウゼフ・ビアフォー
出願人/特許権者： アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
代理人 (4件)： 高木 千嘉 ,  西村 公佑 ,  結田 純次 ,  三輪 昭次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-419661
公開番号（公開出願番号）：特開2004-185017
出願日： 2003年12月17日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】化学増幅型二層レジスト系のための下塗り層として有用な熱硬化性ポリマー組成物、及びそれで被覆した光リソグラフィー基板の提供。【解決手段】ヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤及び下記一般式の熱酸発生剤からなる熱硬化性ポリマー組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板、(a)基板上の熱硬化下塗り、及び(b)熱硬化下塗りの上の放射線感受性レジスト上塗りからなる光リソグラフィー感受性被覆基板。ここで前記熱硬化下塗りはヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤及び熱酸発生剤を含む熱硬化組成物からなる。

IPC (4件)：

G03F7/11 ,  C08F220/28 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/11 503 ,  C08F220/28 ,  G03F7/26 511 ,  H01L21/30 502R

Fターム (29件)：

2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025DA23 ,  2H025DA29 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA14 ,  2H025FA41 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA05 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096KA02 ,  2H096KA19 ,  4J100AL03P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09P ,  4J100BA76R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ハレーション止め組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-328816   出願人：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
• 深紫外線フォトレジスト用の反射防止膜用コーティング組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-582851   出願人：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
• 特許第3778485号
  
• 193NMリソグラフィーのためのヒドロキシ-アミノ熱硬化下塗り
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-419662   出願人：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Thermal stability of silicon-containing methacrylate based bilayer resist for 193 nm lithography