特許
J-GLOBAL ID：200903009676648588

193NMリソグラフィーのためのヒドロキシ-アミノ熱硬化下塗り

発明者：
パトリック・フォスター

パトリック・フォスター について

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シドニー・ジョージ・スレイター

シドニー・ジョージ・スレイター について

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トマス・スタインハウスラー

トマス・スタインハウスラー について

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アンドルー・ジェイ・ブレイクニー

アンドルー・ジェイ・ブレイクニー について

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ジョン・ジョウゼフ・ビアフォー

ジョン・ジョウゼフ・ビアフォー について


出願人/特許権者：
アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド

アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド について


代理人 (4件)： 高木 千嘉 ,  西村 公佑 ,  結田 純次 ,  三輪 昭次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-419661
公開番号（公開出願番号）：特開2004-185017
出願日： 2003年12月17日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
【課題】化学増幅型二層レジスト系のための下塗り層として有用な熱硬化性ポリマー組成物、及びそれで被覆した光リソグラフィー基板の提供。【解決手段】ヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤及び下記一般式の熱酸発生剤からなる熱硬化性ポリマー組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基板、(a)基板上の熱硬化下塗り、及び(b)熱硬化下塗りの上の放射線感受性レジスト上塗りからなる光リソグラフィー感受性被覆基板。ここで前記熱硬化下塗りはヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤及び熱酸発生剤を含む熱硬化組成物からなる。
IPC (4件)：
G03F7/11 ,  C08F220/28 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F7/11 503 ,  C08F220/28 ,  G03F7/26 511 ,  H01L21/30 502R
Fターム (29件)：
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025DA23 ,  2H025DA29 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA14 ,  2H025FA41 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA05 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA23 ,  2H096KA02 ,  2H096KA19 ,  4J100AL03P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09P ,  4J100BA76R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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