特許

J-GLOBAL ID：200903012622649733

193NMリソグラフィーのためのヒドロキシ-アミノ熱硬化下塗り

発明者： パトリック・フォスター ,  シドニー・ジョージ・スレイター ,  トマス・スタインハウスラー ,  アンドルー・ジェイ・ブレイクニー ,  ジョン・ジョウゼフ・ビアフォー
出願人/特許権者： アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
代理人 (4件)： 高木 千嘉 ,  西村 公佑 ,  結田 純次 ,  三輪 昭次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-419662
公開番号（公開出願番号）：特開2004-199073
出願日： 2003年12月17日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】深紫外線リソグラフィーにおける熱硬化性下塗り組成物を提供すること。250°Cより低い温度、3分より短い時間で硬化し、かつ上塗りレジスト溶媒に不溶、反射効果を最小にし、ノボラック樹脂に匹敵するエッチング速度を有する下塗りを提供する。【解決手段】ヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤、熱酸発生剤を含む熱硬化性組成物からなる熱硬化性下塗りの上に、放射線感受性レジスト材料を上塗りする。ヒドロキシル含有ポリマーは30〜60モルのヒドロキシスチレンモノマー単位及び40〜70モルのイソボルニル(メタ)アクリレートモノマー単位からなる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)被覆基板を準備する;ここで被覆基板は基板、前記基板上に置かれた熱硬化下塗り、及び前記熱硬化下塗りの上に置かれた放射線感受性レジスト上塗りからなり、そして前記熱硬化下塗りはヒドロキシル含有ポリマー、アミノ架橋剤及び熱酸発生剤を含む熱硬化組成物からなる; (b)前記放射線感受性レジスト上塗りを化学線に画像形成露光する;そして (c)前記放射線感受性レジスト上塗りを現像剤で現像してレジスト画像を形作る段階からなるレリーフ構造物の製造方法。

IPC (5件)：

G03F7/11 ,  C08F220/28 ,  G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

FI (6件)：

G03F7/11 503 ,  C08F220/28 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/075 511 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 573

Fターム (27件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB34 ,  2H025CB41 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4J100AL03P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL39P ,  4J100BA03P ,  4J100BA80R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38 ,  5F046NA01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ハレーション止め組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-328816   出願人：シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
• 深紫外線フォトレジスト用の反射防止膜用コーティング組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-582851   出願人：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
• 特許第3778485号
  
• 193NMリソグラフィーのためのヒドロキシ-アミノ熱硬化下塗り
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-419661   出願人：アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Thermal stability of silicon-containing methacrylate based bilayer resist for 193 nm lithography