オーバレイを減少させるための基板テーブルまたはマスクテーブルの表面平坦度情報の使用

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 山本貴和 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-342342
公開番号（公開出願番号）：特開2006-157014
出願日： 2005年11月28日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：

【課題】基板および/またはマスクテーブルの非平坦さを補正して、リソグラフィシステムの基板の連続する2つの描像層間のオーバレイを減少させることを提供する。【解決手段】投影ビームを提供する照明システムと、投影ビームの断面にパターンを与えるマスクを支持するマスクテーブルと、基板を保持する基板テーブルと、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含むリソグラフィシステムに関する。システムは、基板テーブルまたはマスクテーブルの表面を表す基準高さマップを使用して、オーバレイ補正値を計算するプロセッサも含む。本発明によって、位置合わせおよび露光中に非平坦度によって生じたウェハグリッドの歪みをフィードフォワード補正し、平坦度特徴の違いが引き起こすオーバレイエラーを軽減することができる。高さマップ情報に基づき、露光チャックの平坦度に関するオーバレイ精度を間接的に認定する方法を提供する。【選択図】図1a

請求項（抜粋）：

リソグラフィシステムであって、放射線の投影ビームを提供する照明システムと、パターニングデバイスを支持するマスクテーブルにして、パターニングデバイスが、投影ビームの断面にパターンを与える働きをするマスクテーブルと、基板を保持する基板テーブルと、前記基板テーブルの表面を表す第一基準高さマップおよび前記マスクテーブルの表面を表す第二基準高さマップのうち少なくとも一方を使用して、オーバレイ補正値を計算するように配置構成されたプロセッサとを有するシステム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 9/00

FI (3件)：

H01L21/30 525W , G03F9/00 H , H01L21/30 525X

Fターム (8件)：

5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046DA05 , 5F046DB04 , 5F046FC04 , 5F046FC05

引用特許：

審査官引用 (5件)

リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびそれにより製造したデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-135865 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造したデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-079637 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
露光を実行する装置において基板を位置調整する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-388603 出願人：インフィネオンテクノロジーズアクチェンゲゼルシャフト

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