露光を実行する装置において基板を位置調整する方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：山本秀策 , 安村高明 , 森下夏樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-388603
公開番号（公開出願番号）：特開2004-172624
出願日： 2003年11月18日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】本発明の目的は、基板、特に半導体ウェハの製造品質に及ぼされるチャックの非平坦さの不利な影響が低減される方法を提供することである。【解決手段】チャックの非平坦さが様々な位置で測定され、かつ理想化された平面からのずれとしてデータバンクに格納される。測定されたずれは、チャックの焦点距離および/または傾斜の事前に決定された設定に対する補正を計算するために用いられ、これらの補正は、露光フィールドのそれぞれの露光を調整するためにそれぞれ別々に用いられる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板に構造を転写するために露光を実行する装置において、感光層で被覆された基板を該装置と位置合わせする方法であって、該装置は、該基板を調整するための可動のチャックと、光源と、少なくとも1つの焦点調節手段とを有し、該方法は、記録されるべき該基板に対面する該チャックの表面と、該チャック上の少なくとも1つの第1の位置のために理想化された平面との間の任意のずれを測定する工程と、該基板が該チャックと接触し、かつ、該チャックによって固定されるように、該基板を該チャック上に提供する工程と、該感光層に投影された該チャック上の該少なくとも1つの第1の位置が、第1のデテールの範囲内、または、そのすぐ近くに配置されるように、該感光層の多数のデテールから、該基板上の第1の露光フィールドを表す第1のデテールを選択する工程と、該基板上の該多数のデテールに対して予定される共通の焦点距離を事前決定する工程と、該基板上の該第1のデテールと該焦点調節手段との間の事前に決定された焦点距離に対する第1の補正を、少なくとも1つの第1の位置において測定されたずれの関数として計算する工程と、該第1の露光フィールドを露光する工程において、該基板を調整するための該チャックを移動させることによって、該焦点距離に該第1の補正を適用する工程とを包含する、方法。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68

FI (3件)：

H01L21/30 515G , G03F7/20 521 , H01L21/68 F

Fターム (9件)：

5F031CA02 , 5F031JA27 , 5F031JA45 , 5F031JA51 , 5F031MA27 , 5F046CC08 , 5F046CC11 , 5F046CC13 , 5F046DA14

引用特許：

審査官引用 (10件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-045678 出願人：キヤノン株式会社
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-110279 出願人：株式会社ニコン
位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-225018 出願人：株式会社ニコン

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