露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-045678
公開番号（公開出願番号）：特開平9-219357
出願日： 1996年02月08日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：

【要約】【課題】チャックの平面度やスキャン中におけるチャックの姿勢変化による被露光面の変化を低減する。【技術手段】薄板状の被露光体を吸着するチャック3と、チャックに吸着された被露光体2上にマスクの像を結像する光学系と、前記光学系と前記被露光体とを相対的にスキャンさせる手段10とを具備するスキャン方式露光装置において、前記チャックの平面度を予め測定する手段1と、測定された平面度の状態を記憶する手段7と、露光時に、前記記憶手段に記憶された平面度の状態に基づいて前記被露光体の被露光面が前記光学系の焦点深度内に入るように前記チャックの吸着面の位置を補正しながら前記スキャンを行わせる補正手段8,9,11とを設ける。

請求項（抜粋）：

薄板状の被露光体を吸着するチャックと、該チャックに吸着された被露光体上にマスクの像を結像する光学系と、前記光学系と前記被露光体とを相対的にスキャンさせる手段と、前記チャックの平面度を予め測定する手段と、測定された平面度の状態を記憶する手段と、露光時に、前記記憶手段に記憶された平面度の状態に基づいて前記被露光体の被露光面が前記光学系の焦点深度内に入るように前記チャックの吸着面の位置を補正しながら前記スキャンを行わせる補正手段とを具備することを特徴とするスキャン方式露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G02F 1/1333 500 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 518 , G02F 1/1333 500 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 526 Z

引用特許：

審査官引用 (7件)

走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-125691 出願人：株式会社ニコン
基板露光装置におけるギャップ制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-348388 出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-205975 出願人：株式会社ニコン

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