特許
J-GLOBAL ID：200903009812908297

超低屈折率膜及びその作製方法

発明者：
塚原 尚希

塚原 尚希 について

, 
村上 裕彦

村上 裕彦 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (2件)： 北村 欣一 ,  吉岡 正志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-176707
公開番号（公開出願番号）：特開2006-350025
出願日： 2005年06月16日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：
【課題】屈折率を1.2よりもさらに下げ、空気の持つ値に近い超低屈折率膜を提供する。【解決手段】空孔形成物質の界面活性剤として塩化セチルトリメチルアンモニウムを50〜65モル%添加した多孔質シリカ材料前駆体溶液を用いて、シリコン基板上に毎秒500回転でスピン塗布し、1Paの真空中400°Cで焼成して、屈折率が1.097〜1.117でナノメートルサイズの空孔を持つ超低屈折率膜を得た。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
無機材料を主成分とする多孔性薄膜であって、屈折率が1.0以上1.15未満の範囲にある超低屈折率膜。
IPC (2件)：
G02B 1/11 ,  C04B 38/06
FI (2件)：
G02B1/10 A ,  C04B38/06 E
Fターム (6件)：
2K009AA02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC42 ,  2K009CC47 ,  2K009DD02
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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