特許
J-GLOBAL ID：200903009946556940
高純度ビスフェノールAの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-168803
公開番号（公開出願番号）：特開平7-025798
出願日： 1993年07月08日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：
【要約】【目的】ビスフェノールAとフェノールとの付加物結晶からえられるビスフェノールAの純度をあげること。【構成】フェノールとアセトンを酸触媒の存在下に反応させ得られるビスフェノールAのフェノール溶液からビスフェノールAのフェノール付加物結晶を晶析させ、固液分離した後、更にこの結晶を溶解、晶析、固液分離操作を1乃至複数回繰り返すことによる高純度ビスフェノールAの製造方法。
請求項（抜粋）：
酸触媒の存在下にフェノールとアセトンを反応させて得られるビスフェノールAのフェノール溶液からビスフェノールAとフェノールの付加物を晶析させ、生成したスラリーの固液分離後、固体成分からフェノールを除去するビスフェノールAの製造方法において、スラリーの固液分離後フェノールの除去前に、更に少なくとも1回、ビスフェノールAとフェノールの付加物をフェノール含有溶液で溶解し、晶析させた後スラリーの固液分離をする操作を繰り返すことを特徴とする高純度ビスフェノールAの製造方法。
IPC (3件)：
C07C 39/16
, C07C 37/82
, C07B 61/00 300
