エッチング後の処理システムのためのガス分配システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (12件)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 白根俊郎 , 村松貞男 , 野河信久 , 砂川克 , 橋本良郎 , 風間鉄也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-085108
公開番号（公開出願番号）：特開2007-266610
出願日： 2007年03月28日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：

【課題】エッチング後の処理システムのためのガス分配システムを提供することである。【解決手段】エッチングプロセス中に形成されるフォトレジストおよびエッチング残渣を除去するエッチング後の処理システムは、記載されている。たとえば、エッチング残渣は、ハロゲンを含む材料を含むことができる。エッチング後の処理システムには、真空チャンバ、真空チャンバに結合されたラジカル発生システム、ラジカル発生システムに結合され、基板より上に反応性のラジカルを分配するように構成されたラジカルガス分配システム、および真空チャンバに結合されるように構成された高温の台が設けられ、基板を支持するように構成されている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

処理空間を含む処理チャンバと; 前記処理チャンバに結合され、プロセスガスを受けて、前記プロセスガスからラジカルを発生するように構成されたリモートラジカル発生システムと; 前記ラジカルを受け、前記処理空間内に前記ラジカルのフローを分配するように構成され、拡散体を備えた前記ガス分配システムと; 前記処理チャンバに結合され、前記処理チャンバの前記処理空間に前記基板を支持し、前記基板の温度を調整するように構成された台と; 前記処理チャンバに結合され、前記処理チャンバを排気するように構成された真空排気システムとを具備し、前記拡散体は、前記ラジカル発生システムの出口に結合された拡散体入口と、前記処理チャンバの前記処理空間に結合された拡散体出口とを有し、実質的に円錐ボリュームを備えている処理システム。

IPC (2件)：

H01L 21/306 , H01L 21/304

FI (2件)：

H01L21/302 104H , H01L21/304 645C

Fターム (36件)：

5F004AA09 , 5F004BA03 , 5F004BB22 , 5F004BB26 , 5F004BB28 , 5F004BB30 , 5F004BC03 , 5F004BD01 , 5F004CA02 , 5F004CA04 , 5F004DA17 , 5F004DA19 , 5F004DA22 , 5F004DA23 , 5F004DA25 , 5F004DA26 , 5F004DA27 , 5F004DB26 , 5F004EA35 , 5F004FA07 , 5F157AA63 , 5F157AA64 , 5F157AA93 , 5F157AB13 , 5F157AB42 , 5F157BG04 , 5F157BG33 , 5F157BG34 , 5F157BG47 , 5F157BG72 , 5F157BH21 , 5F157CE82 , 5F157CF34 , 5F157CF60 , 5F157CF90 , 5F157DB02

引用特許：

審査官引用 (4件)

シャワーノズル
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-001892 出願人：株式会社東芝
プラズマ処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-288014 出願人：東京エレクトロン株式会社
エッチング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-166866 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社

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