特許
J-GLOBAL ID：200903009998195805
真空成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
角田 嘉宏 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-235377
公開番号（公開出願番号）：特開2002-053947
出願日： 2000年08月03日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
要約：
【要約】【課題】 板状の基材に所定温度で蒸着膜を形成する場合に、基材に対する蒸着膜の付着力低下を防止することが可能な真空成膜装置を提供する。【解決手段】 板状の基材8の一方の主面に蒸着膜を形成する真空成膜装置1であって、真空チャンバ2と、真空チャンバ2内に配設された、基8材を保持するための基材ホルダ3と、真空チャンバ2内に、基材ホルダ3に保持される基材8の一方の主面を望むように配置された、蒸着膜形成材料を蒸発させるための蒸発装置9と、基材ホルダ3に保持される基材8の他方の主面を加熱するための加熱装置20と、基材ホルダ3に保持される基材8の一方の主面にビーム状の加熱光14を照射するための加熱光照射装置105とを備えたものである。
請求項（抜粋）：
板状の基材の一方の主面に蒸着膜を形成する真空成膜装置であって、真空チャンバと、該真空チャンバ内に配設された、上記基材を保持するための基材ホルダと、上記真空チャンバ内に、該基材ホルダに保持される上記基材の上記一方の主面を望むように配置された、蒸着膜形成材料を蒸発させるための蒸発装置と、上記基材ホルダに保持される上記基材の他方の主面を加熱するための加熱装置と、上記基材ホルダに保持される基材の上記一方の主面にビーム状の加熱光を照射するための加熱光照射装置とを備えた真空成膜装置。
Fターム (7件)：
4K029AA09
, 4K029BA42
, 4K029BA44
, 4K029BD00
, 4K029CA01
, 4K029DA08
, 4K029JA02
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (10件)
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