特許
J-GLOBAL ID：200903010215565468

パーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット

発明者：
宮下 博仁

宮下 博仁 について

, 
岡部 岳夫

岡部 岳夫 について


出願人/特許権者：
株式会社日鉱マテリアルズ

株式会社日鉱マテリアルズ について


代理人 (1件)： 小越 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-314778
公開番号（公開出願番号）：特開2002-146524
出願日： 2000年10月16日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：
【要約】【課題】 スパッタリングターゲットの側面から発生する堆積物の剥離・飛散を防止する。【解決手段】 スパッタリングターゲットの少なくとも側面に、溶射皮膜を備えていることを特徴とするパーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット。
請求項（抜粋）：
スパッタリングターゲットの少なくとも側面に、表面粗さ10〜20μmRa(中心線平均粗さ)の溶射皮膜を備えていることを特徴とするパーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット。
IPC (3件)：
C23C 14/34 ,  C23C 4/08 ,  C23C 14/00
FI (4件)：
C23C 14/34 C ,  C23C 14/34 B ,  C23C 4/08 ,  C23C 14/00 B
Fターム (20件)：
4K029BA60 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC01 ,  4K029DC03 ,  4K029DC12 ,  4K029DC22 ,  4K031AA06 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB11 ,  4K031CB31 ,  4K031CB33 ,  4K031CB34 ,  4K031CB35 ,  4K031CB36 ,  4K031CB37 ,  4K031CB42 ,  4K031CB45 ,  4K031CB46
引用特許：
審査官引用 (5件)
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