自己清浄型の光学測定を実施するための装置および方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-523839
公開番号（公開出願番号）：特表2003-509856
出願日： 2000年09月11日
公開日（公表日）： 2003年03月11日
要約：

【要約】【課題】自己清浄型の光学測定を実施するための装置および方法【解決手段】サンプルに向けてビームを方向付け、サンプルに隣接した覗き用の光学通路から異物を排除するための、自己清浄型の対物レンズ(100)を開示する。自己清浄型の対物レンズは、光学素子(106,210,310,408,510)と、前記光学素子と前記サンプルとの間を流れる実質的に透明な流体(104,213,326,512)と、を備えることによって、前記サンプルに隣接した少なくとも一部分から、異物を実質的に排除する。光学素子および流体は、協同でビームをサンプルに向けて方向付ける。この自己清浄型の対物レンズを各種の測定デバイスに結合することによって、明瞭な光学測定を妨害する異物を有したサンプルに関し、各種の特性を測定して良い。また、測定デバイスを各種のサンプル処理システムに組み込むまたは結合することによって、関連の工程を明瞭にモニタリングしても良い。

請求項（抜粋）：

測定対象に電磁波のビームを照射して検出を行う検出器であって、前記ビームを前記測定対象に向けて導く光学素子と、前記光学素子と前記測定対象との間を流れて該測定対象上の少なくとも一部領域から異物を実質的に排除することにより、前記ビームを該測定対象に到達させる電磁波的に透明な流体とを備える検出器。

IPC (10件)：

H01L 21/304 622 , H01L 21/304 621 , G01B 11/06 , G01N 1/32 , G01N 1/34 , G01N 21/00 , G01N 21/15 , G01N 21/21 , G01N 21/45 , G01N 21/47

FI (10件)：

H01L 21/304 622 S , H01L 21/304 621 D , G01B 11/06 G , G01N 1/32 A , G01N 1/34 , G01N 21/00 A , G01N 21/15 , G01N 21/21 Z , G01N 21/45 A , G01N 21/47 Z

Fターム (58件)：

2F065AA30 , 2F065CC19 , 2F065DD13 , 2F065FF48 , 2F065FF49 , 2F065FF51 , 2F065GG06 , 2F065HH03 , 2F065HH04 , 2F065HH12 , 2F065HH14 , 2F065JJ01 , 2F065JJ08 , 2F065JJ15 , 2F065LL02 , 2F065LL32 , 2F065LL35 , 2F065LL37 , 2F065LL57 , 2F065PP22 , 2G052AA13 , 2G052AD32 , 2G052EC11 , 2G052FC02 , 2G052FC12 , 2G052GA11 , 2G057AA02 , 2G057AA07 , 2G057AA08 , 2G057AB04 , 2G057AB07 , 2G057AC05 , 2G057JA02 , 2G057JA03 , 2G059AA05 , 2G059BB10 , 2G059BB16 , 2G059EE02 , 2G059EE04 , 2G059EE05 , 2G059EE09 , 2G059EE11 , 2G059EE16 , 2G059FF08 , 2G059FF09 , 2G059GG01 , 2G059GG03 , 2G059GG04 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH06 , 2G059JJ11 , 2G059JJ17 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059JJ22 , 2G059KK01 , 2G059MM09

引用特許：

審査官引用 (6件)

研磨装置及び研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-289386 出願人：キヤノン株式会社
半導体表面研磨方法及び研磨装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-332750 出願人：株式会社東芝
特開昭54-051575

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