研磨装置及び研磨方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡本啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-249241
公開番号（公開出願番号）：特開平11-090818
出願日： 1997年09月12日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：

【要約】【課題】振動検出器を用いて研磨終点を検出する構造を有する研磨装置に関し、研磨対象物の凹凸の大小に影響されずに研磨装置の研磨終点をより高精度に検出すること。【解決手段】第1定盤101 を回転させる第1駆動機構115 と、研磨対象物Wを支持する第2定盤103 と、第2定盤103 を研磨布101 上で回転させる第2駆動機構107 と、第2定盤103 に取付けられた振動検出素子108 と、振動検出素子108 から入力した第1信号を増幅して第2信号を出力する増幅器109cと、増幅器109cから出力された第2信号の大きさに基づいて増幅器109cの利得の不適正を判定して利得の変更を指示するゲイン指示部113 と、ゲイン指示部113 のゲイン変更信号に基づいて増幅器109cの利得を変えるゲイン調整部112 と、第2信号の変化に基づいて研磨終点を判定する研磨終点解析部111bとを含む。

請求項（抜粋）：

研磨布が載置される第1の定盤と、前記第1の定盤を回転させる第1の駆動機構と、研磨対象物を支持する第2の定盤と、前記第2の定盤を前記研磨布の上で回転させる第2の駆動機構と、前記第2の定盤上に取付けられた振動検出素子と、前記振動検出素子から入力した第1の信号を増幅して第2の信号を出力する増幅器と、前記増幅器から出力された第2の信号の大きさに基づいて前記増幅器の利得の不適正を判定して該利得の変更を指示するゲイン指示部と、前記ゲイン指示部のゲイン変更信号に基づいて前記増幅器の利得を変えるゲイン調整部と、前記第2の信号の変化に基づいて研磨終点を判定する研磨終点解析部と、前記研磨終点解析部から出力された研磨終点信号に基づいて、前記第1の駆動機構による前記第1の定盤の駆動を停止し、さらに、前記第2の駆動機構による前記第2の定盤の駆動を停止する制御部とを有することを特徴とする研磨装置。

IPC (2件)：

B24B 37/04 , H01L 21/304 321

FI (2件)：

B24B 37/04 D , H01L 21/304 321 E

引用特許：

審査官引用 (7件)

研磨装置及び研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-081749 出願人：富士通株式会社
圧電体の研磨制御装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平2-412942 出願人：日本電波工業株式会社
振動監視装置及び振動監視条件決定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-231254 出願人：オムロン株式会社

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