特許
J-GLOBAL ID：200903010463156175

CMP排水の濾過方法

発明者：
対比地 元幸

対比地 元幸 について

, 
飯沼 宏文

飯沼 宏文 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 岡田 敬 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-105542
公開番号（公開出願番号）：特開2002-001661
出願日： 1999年12月14日
公開日（公表日）： 2002年01月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】CMP装置から排出される半導体、金属、無機物または有機物等の非除去物が混入された排水から、非除去物とは異なる固形物から成るフィルタを用いて非除去物を除去する濾過方法を提供する。【解決手段】第1のタンク75には、凹凸を有した第1のフィルタ10にトラップされた固形物12を第2のフィルタ13として活用して濾過をする。この第2のフィルタ13の表面に外力を与えると、固形物12の移動が可能となり目詰まりを防止することができる。そして濾過の継続が可能となり、CMP排水の濃度を高めることが出来る。
請求項（抜粋）：
固形物を含む流体が貯留された原水タンクの中に凹凸を有した第1のフィルタが設けられた濾過装置を配置し、前記濾過装置を吸引することにより前記第1のフィルタの全面に前記固形物を含む積層物を形成し、前記原水タンクに砥粒が混入されたスラリーおよび砥粒で削られた屑を含む排水を前記濾過装置により吸引することにより、前記積層物の表面に前記砥粒または/および屑をトラップすると共に、前記凹凸を有した第1のフィルタの最表面に捕獲された前記積層物は剥離されず、前記積層物の表面の前記固形物、前記砥粒または/および屑を前記積層物から遊離するように、前記積層物の表面に外力が加えられ、前記原水タンクの中の流体を濾過装置により濾過し、原水タンクの排水の前記砥粒または/および屑の混入率を高めたことを特徴としたCMP排水の濾過方法。
IPC (11件)：
B24B 57/02 ZAB ,  B01D 29/01 ,  B01D 29/62 ,  B01D 29/66 ,  B01D 37/02 ,  B01D 65/02 510 ,  B01D 65/02 520 ,  B01D 65/02 530 ,  B24B 37/00 ,  C02F 1/44 ,  H01L 21/304 622
FI (13件)：
B24B 57/02 ZAB ,  B01D 37/02 E ,  B01D 65/02 510 ,  B01D 65/02 520 ,  B01D 65/02 530 ,  B24B 37/00 K ,  C02F 1/44 E ,  H01L 21/304 622 E ,  B01D 29/04 510 Z ,  B01D 29/38 510 A ,  B01D 29/38 580 A ,  B01D 29/38 580 C ,  B01D 29/38 580 D
Fターム (31件)：
3C047FF08 ,  3C047GG13 ,  3C047GG17 ,  3C058AA07 ,  3C058AC04 ,  3C058CA01 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  4D006GA02 ,  4D006JA04A ,  4D006JA08A ,  4D006KC14 ,  4D006KC17 ,  4D006KC19 ,  4D006KC20 ,  4D006KE05Q ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB02 ,  4D006MC22 ,  4D006PA02 ,  4D006PB08 ,  4D006PB12 ,  4D006PB22 ,  4D006PB23 ,  4D006PC01 ,  4D006PC80 ,  4D066BB12 ,  4D066FA02 ,  4D066FA03 ,  4D066FA05
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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