特許
J-GLOBAL ID：200903010515868985

外観検査方法及びその装置

発明者：
渋谷 久恵

渋谷 久恵 について

, 
浜松 玲

浜松 玲 について

, 
高木 裕治

高木 裕治 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (2件)： 小川 勝男 ,  田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-085381
公開番号（公開出願番号）：特開2006-266872
出願日： 2005年03月24日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
【課題】 薄膜デバイスを対象とした自動欠陥分類機能を有する外観検査装置において、欠陥分類の条件だしを行うための欠陥種教示を短時間で実現する。 【解決手段】 本発明は、光学式あるいは電子式欠陥検出手段により取得される検査画像に基づいて、比較検査により欠陥を検出すると同時にその欠陥の特徴量を算出し、分類条件設定手段に予め設定した分類条件に従って欠陥分類を行う外観検査方法及び装置であって、前記分類条件設定手段は、予め欠陥検出手段より得られる多数の欠陥に亘る欠陥の特徴量を収集し、該収集された多数の欠陥に亘る欠陥特徴量分布に基づいて欠陥のサンプリングを行い、サンプリング欠陥のレビュー結果に基づいて欠陥分類条件を設定する構成とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
予め分類条件を設定する分類条件設定ステップと、被対象基板を撮像して得られる検査画像を用いて欠陥を検出し、該検出された欠陥の特徴量を算出する欠陥検出ステップと、該欠陥検出ステップにおいて算出された欠陥の特徴量を用いて前記分類条件設定ステップにおいて予め設定された分類条件に従って前記欠陥を分類する欠陥分類ステップとを有する外観検査方法であって、 前記分類条件設定ステップは、 被対象基板から撮像して得られた検査画像を用いて多数の欠陥を検出し、該検出された多数の欠陥の特徴量を算出し、該算出された多数の欠陥に亘る各欠陥の特徴量を収集して記憶する収集ステップと、 該収集ステップにより収集された多数の欠陥に亘る各欠陥の特徴量を基に欠陥の発生分布を示す欠陥特徴量分布を作成し、該作成された欠陥特徴量分布に基づいてレビュー欠陥のサンプリングを行う欠陥サンプリングステップと、 該欠陥サンプリングステップでサンプリングされた複数のレビュー欠陥についてレビューして少なくとも欠陥クラスを付与するレビューステップとを有し、 前記収集ステップにおいて収集されたレビュー欠陥の特徴量に対する前記レビューステップにおいて付与されたレビュー欠陥の欠陥クラスを前記分類条件の教示データとして設定することを特徴とする外観検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G06T 1/00 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G06T1/00 305A ,  H01L21/66 J
Fターム (41件)：
2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BA01 ,  2G051BA05 ,  2G051CB01 ,  2G051DA06 ,  2G051EA04 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EB09 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2G051ED07 ,  2G051FA00 ,  4M106AA01 ,  4M106BA07 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DB07 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB06 ,  5B057CB12 ,  5B057CB18 ,  5B057CC03 ,  5B057CE09 ,  5B057DA03 ,  5B057DA16 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC19 ,  5B057DC36
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (5件)
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