特許

J-GLOBAL ID：200903010676328468

温度調節付きロード・ロック、ロード・ロックを備えたリソグラフィ装置、およびロード・ロックを用いて基板を製造する方法

発明者： アルベルト ヤン ヘントリク クロムプ ,  ヤン フレデリク ホークカムプ ,  ライモント フィッセル ,  ヨセフス コーネリウス ヨハネス アントニウス フグツ ,  ヘンリクス ヨハネス ルイー マリエ フリンクス ,  レオ ヴィルヘルムス マリア クイペルス ,  ヨハネス ヘントリクス ゲルトルディス フランセン
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-067361
公開番号（公開出願番号）：特開2004-343065
出願日： 2004年03月10日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：

【課題】温度調節付きロード・ロック、ロード・ロックを備えたリソグラフィ装置、およびロード・ロックを用いて基板を製造する方法を提供すること。【解決手段】基板Wなどの物体をリソグラフィ装置の中へ移送し、リソグラフィ装置から移送するように配置されたリソグラフィ装置用ロード・ロック。物体Wが前記ロード・ロックの中にあるときに物体Wを支持する支持ユニット33;141を収容するロード・ロック容積の少なくとも一部分を画定するロード・ロック外壁38;40。ロード・ロックはさらに、少なくともロード・ロックからリソグラフィ投影装置に向けて物体を移送する前に物体の温度を所望の温度に制御する温度調節付き構造を有する。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置用のロード・ロックであって、前記リソグラフィ装置内へ物体(W)を移送し、前記リソグラフィ装置から前記物体(W)を移送するように配置され、前記物体(W)が前記ロード・ロック(LL)の中にあるときに前記物体(W)を支持する支持ユニット(33;141)を収容するロード・ロック容積を少なくとも部分的に画定する外壁(38、40)を備え、少なくとも前記ロード・ロックから前記リソグラフィ投影装置に向けて前記物体を移送する前に前記物体の温度を所望の温度に制御する温度調節付き構造を備えたロード・ロック。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (1件)：

H01L21/30 502J

Fターム (8件)：

5F046AA21 ,  5F046CD01 ,  5F046CD04 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046DA26 ,  5F046DA27 ,  5F046DA29

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 基板処理装置及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-227549   出願人：キヤノン株式会社
• 被処理体載置テーブルおよびそれを備えた処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-314594   出願人：株式会社ニコン
• ロードロックチャンバ及びそれを用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-174229   出願人：キヤノン株式会社
• 循環クーラントを用いた温度コントローラ及びそのための温度制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-194209   出願人：エフエスアイ・インターナショナル・インコーポレーテッド
• 基板処理装置、基板の搬送方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-216551   出願人：キヤノン株式会社