基板をウェハ・チャックに保持する方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：山川政樹 , 山川茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-553122
公開番号（公開出願番号）：特表2008-532263
出願日： 2006年01月12日
公開日（公表日）： 2008年08月14日
要約：

本発明は基板をウェハ・チャックに保持する方法に向けられる。この方法は基板の一部分をウェハ・チャックに向けて加速させ、ウェハ・チャックへ向かう基板の移動の速度を生成させ、基板がウェハ・チャックに到達する前に速度を下げることを特徴とする。この方式で、ウェハ・チャックとこの部分の衝突の力が大幅に削減され、これは基板の構造的完全性が傷つけられる可能性、さらには基板上の層および/またはウェハ・チャックが傷つけられる可能性を下げる。

請求項（抜粋）：

基板をウェハ・チャックに保持する方法であって、前記基板の一部分を前記ウェハ・チャックに向けて加速させるステップと、前記ウェハ・チャックへ向かう前記基板の移動の速度を生成するステップと、前記基板が前記ウェハ・チャックに到達する前に前記速度を低下させるステップとを含む方法。

IPC (3件)：

H01L 21/683 , B29C 59/02 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L21/68 P , B29C59/02 B , H01L21/30 502D , H01L21/30 502J

Fターム (24件)：

4F209AJ08 , 4F209AM28 , 4F209AR02 , 4F209AR07 , 4F209AR08 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PN07 , 4F209PN13 , 4F209PQ11 , 4F209PQ14 , 4F209PQ16 , 5F031CA01 , 5F031HA02 , 5F031HA05 , 5F031HA14 , 5F031HA80 , 5F031KA01 , 5F031MA21 , 5F046AA28 , 5F046CC08

引用特許：

審査官引用 (5件)

静電吸着装置、基板搬送装置、真空処理装置及び基板保持方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-176200 出願人：株式会社アルバック
ウエハの加熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-043781 出願人：玉川マシナリー株式会社
ウェーハの搬送装置における真空保持装置および真空保持解除方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-052698 出願人：株式会社日平トヤマ

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