特許
J-GLOBAL ID：200903011212403374

X線マスクブランク及びその製造方法並びにX線マスクの製造方法

発明者：
笑喜 勉

笑喜 勉 について

, 
河原 孝光

河原 孝光 について


出願人/特許権者：
ホーヤ株式会社

ホーヤ株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-093147
公開番号（公開出願番号）：特開平10-229043
出願日： 1997年03月27日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：
【要約】【課題】 高いエッチング選択比を保持したままで極めて低い応力を得ることができ、したがって、極めて高い位置精度を有するX線マスクを製造できるX線マスクブランク及びX線マスクの製造方法を提供する。【解決手段】 基板11上に、X線透過膜12を有し、該X線透過膜12上にX線吸収体膜13を有するX線マスクブランクであって、前記X線吸収体膜13の上に、クロムと炭素及び/又は窒素を含む材料からなるエッチングマスク層14を設ける。
請求項（抜粋）：
マスク基板上に、X線を透過するX線透過膜を有し、該X線透過膜上にX線を吸収するX線吸収体膜を有するX線マスクブランクであって、前記X線吸収体膜の上に、クロムと炭素を含む材料からなるエッチングマスク層を設けたことを特徴とするX線マスクブランク。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A
引用特許：
審査官引用 (4件)
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